[发明专利]一种触摸屏金属线的制作方法

说明书

本发明公开了一种触摸屏金属线的制作方法，制作方法包括以下步骤：a.以氩气为工作气体，依次在玻璃基板上溅镀第一Mo层、中间Al层、第二Mo层；b.采用硝酸‑磷酸‑乙酸体系蚀刻液对溅镀好的Mo‑Al‑Mo层进行蚀刻；所述硝酸的质量百分比为8~11%；其中，在溅射第一Mo层和第二Mo层时，分别向溅镀体系中通入氧气；在溅镀第二Mo层时的通氧量等于溅镀第一Mo层时的通氧量。本申请在分别溅射第一Mo层和第二Mo层时，向溅镀体系中通入氧气，通过控制溅镀第一Mo层和第二Mo层时溅镀体系中的通氧量，并控制硝酸‑磷酸‑乙酸体系蚀刻液的质量百分比，得到的金属线的结构无底切现象，爬坡效果非常好。

技术领域

本发明涉及触摸屏制造领域，具体地，涉及一种触摸屏金属线的制作方法。

背景技术

随着触摸屏各种新型结构的出现，膜层之间搭接要求越来越高，金属线宽也是越做越小，那么对金属线的坡度角要求就越来越严格。

在触摸屏制作过程中，通常采用Mo-Al-Mo结构制作边缘金属线，中间Al 层起到导通的作用，上层的第二Mo层起保护中间Al层的作用，下层的第一Mo层起增加跟基板附着力的作用。依次溅镀好Mo-Al-Mo层后，采用蚀刻液进行蚀刻，最终制得的产品形成如图1所示的正梯形结构时具有较高的可靠性。

但是，实际上，由于AL元素活性高于Mo，所以中间Al层的刻蚀速率比Mo快，另一方面，第一Mo层因为需要较强附着力附着于基板，需要通入一定量的氧气，通氧后第一Mo层蚀刻速度高于未通氧的第二Mo层蚀刻速度，最终导致刻蚀后中间Al层凹陷和第二Mo层突出的金属侧蚀的底切（Undercut）不良现象，如图2所示，金属线的结构大致呈倒梯形结构。底切（Undercut）结构的金属线，在后制程生产过程中，上层的第二Mo层易发生断裂，形成金属丝造成金属线之间短路，同时，由于下层的第一Mo层有空气残留，在其膜层上面涂胶会发生胶排斥现象。

发明内容

为了解决上述问题，提供一种触摸屏金属线的制作方法,使得金属线的MoAlMo层具有正梯形结构。

本发明提供了一种触摸屏金属线的制作方法，所述制作方法包括以下步骤：

a. 以氩气为工作气体，依次在玻璃基板上溅镀第一Mo层、中间Al层、第二Mo层；

b. 采用硝酸-磷酸-乙酸体系蚀刻液对溅镀好的Mo-Al-Mo层进行蚀刻；

所述硝酸-磷酸-乙酸体系蚀刻液，硝酸的质量百分比为8~11%；

其中，在溅射第一Mo层和第二Mo层时，分别向溅镀体系中通入氧气；在溅镀第二Mo层时通入的氧气与氩气的比值等于溅镀第一Mo层时通入的氧气与氩气的比值；在分别溅射第一Mo层和第二Mo层时，向溅镀体系中通入的氧气的气体量相同。

优选的，所述硝酸的质量百分比为8~11%，所述乙酸的质量百分比为8~14%，所述磷酸的质量百分比为65~71%。

优选的，在分别溅射第一Mo层和第二Mo层时，向溅镀体系中通入的氧气与氩气的气体量的比值均大于等于1：20且小于等于3：20。

优选的，在分别溅射第一Mo层和第二Mo层时，向溅镀体系中通入的氧气与氩气的气体量的比值为1：18。

优选的，所述第一Mo层的厚度为200~400埃，所述中间Al层的厚度为2000~2500埃，所述第二Mo层的厚度为500~700埃。

优选的，所述第一Mo层的厚度为300埃，所述中间Al层的厚度为2000埃，所述第二Mo层的厚度为500埃。

优选的，所述硝酸-磷酸-乙酸体系蚀刻液中还包括活性剂和添加剂。

与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：