[发明专利]用于制造构件的装置和方法

权利要求书

1.一种用于制造构件(20)的装置(10)，其中所述装置(10)包括：

-第一模具元件(11)，所述第一模具元件在面(12)上被设计成用于模制待制造的构件(20)的除端面(21)外的至少一个区段；

-第二模具元件(13)，所述第二模具元件具有空腔(14)，其中所述第二模具元件(13)被配置成用于被布置在所述第一模具元件(11)上，从而使得所述空腔(14)与所述待制造的构件(20)的端面(21)相对应；

-可膨胀的软管(16)，所述可膨胀的软管被布置在所述空腔(14)中；以及

-罩盖件(18)，所述罩盖件覆盖并且相对于周围环境大气密封所述第一模具元件(11)和所述第二模具元件(13)，

其中所述可膨胀的软管(16)的内部与周围环境大气处于流体联接。

2.根据权利要求1所述的装置(10)，此外包括：

-半透膜(17)，所述半透膜被布置在所述可膨胀的软管(16)与所述待制造的构件(20)之间。

3.根据权利要求2所述的装置(10)，其中所述半透膜(17)被布置在所述第一模具元件(11)与所述第二模具元件(13)之间并且跨越所述待制造的构件(20)的端面(21)。

4.根据权利要求3所述的装置(10)，此外包括：

-密封元件(19)，所述密封元件被布置在所述半透膜(17)与所述第一模具元件(11)之间或所述半透膜(17)与所述第二模具元件(13)之间。

5.根据权利要求2所述的装置(10)，其中所述半透膜(17)被设计成软管形的并且包围所述可膨胀的软管(16)。

6.根据权利要求2所述的装置(10)，其中所述半透膜(17)至少区段式地被预先模制，并且经预先模制的区段被配置成用于模制所述待制造的构件(20)的端面(21)。

7.根据权利要求1所述的装置(10)，此外包括：

-真空源(30)，所述真空源被配置成用于将真空施加在由所述罩盖件(18)密封的区域中，所述第一模具元件(11)和所述第二模具元件(13)位于所述区域中。

8.根据权利要求1所述的装置(10)，其中所述第一模具元件(11)被设计成两件式的，并且其中所述第二模具元件(13)被放置在所述第一模具元件(11)的两个部件上。

9.一种用于制造构件(20)的方法，其中所述方法包括：

布置(S201)第一模具元件(11)，所述第一模具元件具有与待制造的构件(20)的除端面(21)外的至少一个区段对应的形状；

将具有空腔(14)的第二模具元件(13)布置(S202)在所述第一模具元件(11)上，从而使得所述空腔(14)与所述待制造的构件(20)的端面(21)相对应；

将可膨胀的软管(16)引入(S203)所述空腔(14)中；

将预先制造的构件和/或待硬化的材料引入(S204)所述第一模具元件(11)中；

用罩盖件(18)罩盖(S205)所述第一模具元件(11)和所述第二模具元件(13)，所述罩盖件相对于周围环境大气密封所述第一模具元件(11)和所述第二模具元件(13)；

将真空施加(S206)在由所述罩盖件(18)密封的区域中，所述第一模具元件(11)和所述第二模具元件(13)位于所述区域中，

其中所述可膨胀的软管(16)的内部与周围环境大气处于流体联接。

10.根据权利要求9所述的方法，所述方法包括：

将半透膜(17)引入(S210)所述可膨胀的软管(16)与所述待制造的构件(20)的端面(21)之间。