[发明专利]产生极紫外辐射的装置在审
申请号: | 201910758158.8 | 申请日: | 2019-08-16 |
公开(公告)号: | CN110837206A | 公开(公告)日: | 2020-02-25 |
发明(设计)人: | 许峻嘉;郑博中;陈立锐;简上傑;苏彦硕;谢劼;杨基 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05G2/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产生 紫外 辐射 装置 | ||
一种产生极紫外(EXTREME ULTRAVIOLET;EUV)辐射的装置,其包含液滴产生器、激发激光源、能量检测器以及回授控制器。液滴产生器是配置以产生目标液滴。激发激光源是配置以产生预脉冲和主脉冲,以通过加热来将目标液滴转换为电浆。能量检测器是配置以量测当目标液滴被转换为电浆时所产生的极紫外能量的偏差。回授控制器是配置以基于极紫外能量的偏差来调整透过激发激光源所产生的后续预脉冲和主脉冲间的时间延迟,极紫外能量的偏差是透过给定主脉冲来产生。
技术领域
本揭露的实施方式是有关于一种产生极紫外辐射的装置。
背景技术
对计算能力的需求呈指数成长,这种计算能力的增加可以通过增加半导体集成电路(integrated circuits(ICs))的功能密度,即每个晶片上互连装置的数目来实现。随着功能密度的增加,晶片上各个装置的尺寸会减小。集成电路中元件尺寸的减少已被半导体制造技术,例如微影(lithography)的进步所满足。
举例来说,用于微影的辐射波长已经从紫外光减小到深紫外光(deepultraviolet(DUV)),再到最近的极紫外光范围。元件尺寸的进一步减小需要微影的解析度的进一步改善,其可使用极紫外光微影(EUV lithography(EUVL))来实现。极紫外光微影采用波长约1到100纳米(nm)的辐射。
一种产生极紫外辐射的方法为激光产生电浆(laser-produced plasma;LPP)。在一基于激光产生电浆的极紫外光源中,一高功率激光光束聚焦在小的掺锡液滴标靶(tindroplet targets)上来形成高度离子化电浆,其可以发出峰值波长在约13.5纳米的极紫外光辐射。由激光产生电浆产生的极紫外光辐射的强度取决于通过高功率激光从目标液滴(target droplets)产生电浆的效率。将高功率激光的脉冲与液滴标靶的产生和移动同步化可以提高基于极紫外辐射源的激光产生电浆的效率。
发明内容
本揭露提出一种产生极紫外(EUV)辐射的装置,其包含液滴产生器、激发激光源、能量检测器以及回授控制器。液滴产生器是配置以产生目标液滴。激发激光源是配置以产生预脉冲和主脉冲,以透过加热来将目标液滴转换为电浆。能量检测器是配置以量测当液滴被转换为电浆时所产生的极紫外能量中的偏差。回授控制器是配置以基于极紫外能量的偏差来调整透过激发激光源所产生的后续预脉冲和主脉冲间的时间延迟,极紫外能量的偏差是透过给定主脉冲来产生。
附图说明
从以下结合所附附图所做的详细描述,可对本揭露的实施例的态样有更佳的了解。需注意的是,根据业界的标准实务,各特征并未依比例绘示。事实上,为了使讨论更为清楚,各特征的尺寸都可任意地增加或减少。
图1是绘示根据本揭露一些实施例所建构的具有激光产生电浆(LPP)的极紫外光微影系统的示意图;
图2A、图2B、图2C、图2D、图2E以及图2F是绘示利用预脉冲分别在X-Z平面和X-Y平面的目标液滴的移动;
图3A是绘示由光束漂移所造成的在X和Y方向上撞击的预脉冲焦点和主脉冲焦点间的距离偏差;
图3B和图3C是图表式地绘示在X和Y方向上撞击的预脉冲焦点和主脉冲焦点间的距离偏差的效果;
图4是以图表式地绘示出调整预脉冲撞击液滴的位置与主脉冲撞击液滴的位置两者间距离的效果;
图5是绘示根据本揭露的一些实施例的产生极紫外辐射的装置的示意图;
图6是绘示根据本揭露的一实施例的极紫外光源的激发激光/能量检测器系统的控制方法的流程示意图;
图7是绘示根据本揭露的一实施例的用以量测极紫外光源中主脉冲、子脉冲以及目标液滴能量量测的偏差的装置。
【符号说明】
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