[发明专利]掩模板及曝光方法在审
申请号: | 201910759877.1 | 申请日: | 2019-08-16 |
公开(公告)号: | CN112394609A | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 王厚有;冯永波;朱红波;王冠博 | 申请(专利权)人: | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02F1/13;G02F1/1335;G02F1/1343 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
地址: | 230012 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 模板 曝光 方法 | ||
1.一种掩模板,其特征在于,包括:
液晶盒结构,所述液晶盒结构具有相对的第一表面和第二表面,所述第一表面和所述第二表面之间设有隔离材料围成的封闭的间隙腔,在所述间隙腔内填充有液晶层;
第一电极层和第一偏光膜,对应于所述液晶层依次设置于所述第一表面远离所述第二表面的一侧,所述第一电极层包括覆盖所述液晶层表面不同位置的多个第一透明电极;以及
第二电极层和第二偏光膜,对应于所述液晶层依次设置于所述第二表面远离所述第一表面的一侧,所述第二电极层包括与各个所述第一透明电极位置对应且极性相反的至少一个第二透明电极,所述第一偏光膜和所述第二偏光膜的滤光方向正交。
2.如权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述第一表面和所述第二表面相互平行,所述间隙腔在垂直于所述第一表面的方向上具有均一的高度,所述液晶层填满所述间隙腔。
3.如权利要求2所述的掩模板,其特征在于,所述第二电极层仅包括一个所述第二透明电极,每个所述第一透明电极在所述第二电极层的正投影落在所述第二透明电极的区域内。
4.如权利要求2所述的掩模板,其特征在于,所述第二电极层包括与所述多个第一透明电极一一对应的多个所述第二透明电极,每个所述第一透明电极在所述第二电极层的正投影落在对应的所述第二透明电极的范围内。
5.如权利要求4所述的掩模板,其特征在于,彼此对应的一个所述第一透明电极和一个所述第二透明电极的面积相同。
6.如权利要求4所述的掩模板,其特征在于,所述第一透明电极和所述第二透明电极平行于所述第一表面的截面形状包括圆形、半圆形、椭圆形、半椭圆形、多边形的至少一种。
7.如权利要求4所述的掩模板,其特征在于,所述第一电极层的多个所述第一透明电极为行列排布,每一行上的所述第一透明电极依次电连接;所述第二电极层的多个第二透明电极为行列排布,每一列上的所述第二透明电极依次电连接,彼此对应的一个所述第一透明电极和一个所述第二透明电极位于所述第一电极层上的行和所述第二电极层上的列的交叉处。
8.如权利要求1至7任一项所述的掩模板,其特征在于,所述掩模板还包括驱动器,所述驱动器将电压信号分别施加到所述第一透明电极和所述第二透明电极。
9.如权利要求1至7任一项所述的掩模板,其特征在于,还包括:
第三电极层,对应于所述液晶层设置于所述第一电极层和所述第一偏光膜之间,所述第一电极层和所述第三电极层之间通过透明绝缘材料间隔,所述第三电极层包括对应于相邻两个所述第一透明电极之间的区域设置的多个第三透明电极,所述第三透明电极和所述第二透明电极的极性相反。
10.如权利要求9所述的掩模板,其特征在于,还包括:
第四电极层,对应于所述液晶层设置于所述第二电极层和所述第二偏光膜之间,所述第二电极层和所述第四电极层之间通过透明绝缘材料间隔,所述第四电极层包括多个第四透明电极,所述多个第四透明电极和所述多个第三透明电极一一对应且极性相反,每个所述第三透明电极在所述第四电极层的正投影落在对应的所述第四透明电极的范围内。
11.如权利要求1至7任一项所述的掩模板,其特征在于,还包括:
增透膜,设置于所述第一偏光膜远离所述第一电极层一侧;和/或
透明基底,设置于所述第二偏光膜远离所述第二电极层一侧。
12.如权利要求1至7任一项所述的掩模板,其特征在于,所述液晶层采用向列相液晶,所述间隙腔的邻近所述第一表面和所述第二表面的内壁表面形成有微刻槽。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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