[发明专利]显示面板、显示装置及显示面板的制作方法在审
申请号: | 201910762400.9 | 申请日: | 2019-08-19 |
公开(公告)号: | CN110634917A | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 郭庆勋;朱小光 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 非显示区域 显示面板 显示区域 显示器件 公共层 基板 阴极 像素定义层 阳极 显示装置 延伸 阳极接触 依次层叠 覆盖 外围 制作 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基板,所述基板包括显示区域和位于所述显示区域外围的非显示区域;
显示器件层,所述显示器件层设置于所述基板上,所述显示器件层包括依次层叠设置的阳极、像素定义层、公共层和阴极;
其中,所述阳极覆盖所述显示区域并延伸至所述非显示区域,所述像素定义层和所述公共层均设置于所述显示区域上,且均未延伸至所述显示区域至少一侧的所述非显示区域,所述阴极覆盖所述公共层且延伸至所述非显示区与所述阳极接触。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
驱动信号线,设置于所述基板的所述显示区域至少一侧的所述非显示区域上;
所述像素定义层和所述公共层均未延伸至设置有所述驱动信号线的所述非显示区域。
3.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层和所述公共层的材料均为有机材料,所述像素定义层和所述公共层延伸至设置有所述驱动信号线的所述非显示区的部分,通过相应有机溶剂进行刻蚀处理。
4.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括电压信号线,所述电压信号线设置于所述基板的所述显示区域至少一侧的所述非显示区域上,并与所述阳极相连接,所述驱动信号线设置于所述显示区域与所述电压信号线之间。
5.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阳极远离所述基板的一侧上形成有至少一个第一挡墙,且所述挡墙位于所述非显示区域上,所述阳极未覆盖的所述非显示区域处设置有至少一个第二挡墙。
6.如权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括封装层,所述封装层包括第一无机层、第二无机层以及设置于所述第一无机层和所述第二无机层之间的有机层,所述第一无机层覆盖所述显示区域和所述非显示区域,所述有机层覆盖所述显示区域,并延伸至所述第一挡墙远离所述第二挡墙的一侧,所述第二无机层覆盖所述显示区域和所述非显示区域。
7.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至6任一项所述的显示面板。
8.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
步骤S10:提供基板,所述基板包括显示区域和位于所述显示区域外围的非显示区域;
步骤S20:依次在所述基板上沉积形成像素定义层和公共层,所述像素定义层和所述公共层均覆盖所述显示区域,且均延伸至所述非显示区域;
步骤S30:遮挡所述显示区域,去除延伸至所述显示区域至少一侧的所述非显示区域上的所述像素定义层和所述公共层。
9.如权利要求8所述的制作方法,其特征在于,所述基板上还形成有驱动信号线,所述驱动信号线设置于所述基板的所述显示区域至少一侧的所述非显示区域上,在所述步骤S20中所述像素定义层和所述公共层均延伸至设置有所述驱动信号线的所述非显示区域。
10.如权利要求9所述的制作方法,其特征在于,所述像素定义层和所述公共层的材料均为有机材料,所述像素定义层和所述公共层延伸至设置有所述驱动信号线的所述非显示区域的部分,通过相应有机溶剂进行刻蚀处理去除。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的