[发明专利]一种熔盐原位电沉积制备钨涂层的方法有效

专利信息
申请号: 201910763473.X 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110528033B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 席晓丽;秦文轩;马立文;聂祚仁;张青华 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: C25D3/66 分类号: C25D3/66;C25D5/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 商秀玲
地址: 100022 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 原位 沉积 制备 涂层 方法
【权利要求书】:

1.一种熔盐原位电沉积制备钨涂层的方法,其特征在于,在惰性气体保护下,以包含稀有金属氧化物的钨酸盐体系为熔盐电解质,金属钨或钨基合金为辅助电极,导电镀件为工作电极,加热熔融熔盐电解质后保温,原位电沉积,即得;

其中,所述钨酸盐体系由钨酸盐、三氧化钨和稀有金属氧化物组成,其中,所述钨酸盐与所述三氧化钨的摩尔比为1:0.001-0.5,所述稀有金属氧化物为稀土金属氧化物和氧化锆中的一种,所述稀有金属氧化物在所述钨酸盐体系中的添加量为1-5 wt%。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述钨酸盐为Na2WO4、K2WO4和CaWO4中的一种或多种。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述钨酸盐为Na2WO4

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述钨基合金中钨的含量大于等于98wt%。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述电沉积为恒电位跃阶法原位电沉积或恒电流跃阶法原位电沉积。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,

所述恒电位跃阶法原位电沉积的工艺条件为:电位为0.2-2V,参比电极为金属铂丝;

和/或,所述恒电流跃阶法原位电沉积的工艺条件为:电流密度为10-140 mA/cm2

7.根据权利要求1-6任一项所述的方法,其特征在于,所述导电镀件的表面粗糙度小于Ra 1.8,且电导率大于240 S/cm。

8.根据权利要求1-6任一项所述的方法,其特征在于,所述惰性气体选自氦气、氖气和氩气中的一种。

9.根据权利要求1-6任一项所述的方法,其特征在于,所述加热熔融和保温的温度为800-950℃。

10.根据权利要求1-6任一项所述的方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、将经机械切割和打磨处理后的金属钨或钨基合金依次置于丙酮、酒精和去离子水中超声清洗,烘干备用;

S2、将导电镀件经机械打磨和表面抛光至表面光滑平整后,依次置于丙酮、酒精和去离子水中超声清洗,烘干备用;

S3、将预先经过真空干燥脱水处理后的熔盐电解质原料按配比混合,在惰性气体保护下升温至800-950 ℃,保温2-4 h溶化均匀;

S4、将辅助电极和工作电极置于熔盐中采用恒电位跃阶法原位电沉积,或将辅助电极、工作电极和参比电极置于熔盐中采用恒电流跃阶法原位电沉积,电沉积后立即取出导电镀件并置于碱液中浸泡,清洗后烘干即得。

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