[发明专利]衍射光学元件及其制造方法在审
| 申请号： | 201910763863.7 | 申请日： | 2019-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN112394435A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 黄河;林涛;楼歆晔;丛森 | 申请（专利权）人： | 上海鲲游光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 宁波理文知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 33244 | 代理人： | 罗京;孟湘明 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 衍射 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一种衍射光学元件的制造方法，其特征在于，包括：
确定衍射光学元件的参数；
设计衍射光学元件；
制作衍射光学元件母版；以及
组装形成衍射光学元件。
2.根据权利要求1所述的衍射光学元件的制造方法，进一步包括对所述衍射光学元件进行检测。
3.根据权利要求1所述的衍射光学元件的制造方法，其中在确定衍射光学元件的参数步骤中，所述衍射光学元件的参数包括光源、M2、目标图案、整体参数。
4.根据权利要求3所述的衍射光学元件的制造方法，其中确定衍射光学元件的参数步骤中，包括确定所述光源的波长、偏振态、发散角、发散直径。
5.根据权利要求3所述的衍射光学元件的制造方法，其中确定衍射光学元件的参数步骤中，包括确定所述M2的质量。
6.根据权利要求3所述的衍射光学元件的制造方法，其中确定衍射光学元件的参数步骤中，包括确定所述目标图案的点数、发散角、工作距离以及点间距离。
7.根据权利要求3所述的衍射光学元件的制造方法，其中确定衍射光学元件的参数步骤中，包括确定衍射效率、高低频信噪比以及零级百分比。
8.根据权利要求1所述的衍射光学元件的制造方法，其中在设计衍射光学元件步骤中，包括设计衍射光学元件的类型和设计参数。
9.根据权利要求1所述的衍射光学元件的制造方法，其中在设计衍射光学元件步骤中，包括使用电子刻蚀等多种技术制作掩膜；利用接触式/投影式光刻机将多层掩膜图案制作在基地表面，并使用反应离子束刻蚀工艺进行加工，形成多台阶的表面微型浮雕结构。
10.根据权利要求1所述的衍射光学元件的制造方法，其中所述衍射光学元件的模板基底是石英。
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