[发明专利]用于对对象成像的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201910764027.0 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110870775B 公开(公告)日: 2023-10-03
发明(设计)人: 雷米·克劳斯;泽维尔·曼卡迪;雅恩·勒穆尔;范妮·帕图洛斯 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 钱慰民;张鑫
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 对象 成像 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于成像的系统,包括:

x射线源,所述x射线源用于使x射线透射穿过对象,同时所述x射线源沿着由扫掠角限定的路径连续地行进;

检测器,所述检测器用于在所述x射线穿过所述对象后接收所述x射线;和

控制器,所述控制器用于:

经由所述x射线源和所述检测器获取关于所述对象的初步数据;

从所述初步数据确定至少一个获取参数;以及

至少部分地基于所述获取参数而经由所述x射线源和所述x射线检测器获取所述对象的一个或多个投影。

2.根据权利要求1所述的系统,其中所述获取参数为以下中的至少一者:投影的数量、所述x射线源的旋转速度、所述x射线源的角度范围以及所述一个或多个投影中的投影之间的角度步长。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述初步数据包括所述对象的衰减属性。

4.根据权利要求3所述的系统,其中所述衰减属性为最密集位置处的聚甲基丙烯酸甲酯等效厚度。

5.根据权利要求1所述的系统,其中所述控制器至少部分地基于以下中的一者来确定所述至少一个获取参数:所述x射线源的阳极材料、所述x射线源的滤波器选择、所述x射线源的峰值千伏电压、所述x射线源的每脉冲毫安数、所述x射线源的旋转速度、以及投影的数量。

6.根据权利要求1所述的系统,其中所述控制器进一步用于:

从所述一个或多个投影生成三维图像。

7.根据权利要求1所述的系统,其中所述路径被配置用于断层合成。

8.根据权利要求1所述的系统,其中所述控制器进一步用于:

当由所述x射线源和所述检测器获取的所述一个或多个投影的数量等于投影的期望数量时,或者当所述x射线源的旋转角度达到期望的旋转角度时,停止获取所述一个或多个投影。

9.一种用于成像的方法,包括:

经由控制器、x射线源和x射线检测器获取对象的初步数据,所述x射线源用于使x射线透射穿过所述对象,同时所述x射线源沿着由扫掠角限定的路径连续地行进,所述检测器用于在所述x射线穿过所述对象之后接收所述x射线;

经由所述控制器从所述初步数据确定至少一个获取参数;以及

至少部分地基于所述获取参数而经由所述控制器、所述x射线源和所述检测器获取所述对象的一个或多个投影。

10.根据权利要求9所述的方法,其中经由所述控制器从所述初步数据确定至少一个获取参数至少部分地基于以下中的一者:所述x射线源的阳极材料、所述x射线源的滤波器选择、所述x射线源的峰值千伏电压、所述x射线源的每脉冲毫安数、所述x射线源的旋转速度、以及投影的数量。

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