[发明专利]一种防止二次蚀刻导致线路侧蚀的方法在审

专利信息
申请号: 201910764463.8 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110493969A 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 方磊;王健;孙彬;沈洪;李晓华 申请(专利权)人: 江苏上达电子有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06;H05K3/28
代理公司: 32220 徐州市三联专利事务所 代理人: 陈鹏<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 221300 江苏省徐州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 蚀刻 保护层 烘烤 保护线路 表面形成 化学沉锡 湿膜涂布 线路表面 线路蚀刻 性质稳定 干膜层 蚀刻液 氧化锡 侧蚀 纯锡 镀锡 退膜 显影 腐蚀 侧面 曝光
【权利要求书】:

1.一种防止二次蚀刻导致线路侧蚀的方法,其特征在于,在seed蚀刻前,在线路侧面及表面形成保护层,然后再进行seed蚀刻。

2.根据权利要求1所述一种防止二次蚀刻导致线路侧蚀的方法,其特征在于,包括以下步骤:湿膜涂布/干膜层压,曝光,显影,线路蚀刻,退膜,化锡,烘烤,seed蚀刻。

3.根据权利要求2所述一种防止二次蚀刻导致线路侧蚀的方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

1)在铜箔(3)表面涂布湿膜/层压干膜(4),经曝光、显影后,形成所需线路图案的保护层;

2)用蚀刻液对铜箔(3)进行蚀刻;

3)进行退膜处理去除保护层,得到线路图案;

4)然后对线路进行化锡处理,在线路表面及侧面形成纯锡层(5),经过烘烤处理后,在锡层表面形成致密的氧化锡保护层(6);

5)最后进行seed蚀刻,得到所需线路。

4.根据权利要求3所述一种防止二次蚀刻导致线路侧蚀的方法,其特征在于,所述步骤2)中的蚀刻液采用氯化铁溶液、氯化铜溶液、硫酸/双氧水溶液中的任一种。

5.根据权利要求3所述一种防止二次蚀刻导致线路侧蚀的方法,其特征在于,还包括步骤:先在绝缘基材(1)上溅射一层seed层(2),然后在seed层(2)上电镀铜。

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