[发明专利]距离测量系统在审
| 申请号： | 201910766135.1 | 申请日： | 2019-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN110596720A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 朱亮;闫敏 | 申请（专利权）人： | 深圳奥锐达科技有限公司 |
| 主分类号： | G01S17/10 | 分类号： | G01S17/10;G01S7/481 |
| 代理公司： | 44223 深圳新创友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 孟学英 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤海街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 畸变特征 距离测量系统 斑点图案 采集模组 发射模组 畸变补偿 阵列像素单元 成像透镜 处理电路 发射光束 反射光束 畸变问题 算法实现 传统的 算法 反射 采集 发射 飞行 源头 | ||
1.一种距离测量系统，其特征在于，包括：
发射模组，用于发射具有第一畸变特征的斑点图案光束；
采集模组，包含具有第二畸变特征的成像透镜以及阵列像素单元，用于采集被反射的所述斑点图案光束；
处理电路，与所述发射模组以及所述采集模组连接，用于计算所述发射光束与所述反射光束之间的飞行时间；
所述第一畸变特征与所述第二畸变特征相互补偿。
2.如权利要求1所述的距离测量系统，其特征在于，所述第一畸变特征为桶形畸变特征或枕形畸变特征，所述第二畸变特征为枕形畸变特征或桶形畸变特征。
3.如权利要求1所述的距离测量系统，其特征在于，所述发射模组包括阵列光源、投影透镜及空间光调制器。
4.如权利要求3所述的距离测量系统，其特征在于，所述阵列光源上的子光源排列是具有第一畸变特征的二维排列图案；
或，所述投影透镜具有第一畸变特征；
或，所述空间光调制器的衍射图案具有第一畸变特征；
或，所述阵列光源上的子光源排列、所述投影透镜以及所述空间光调制器衍射图案中的至少两种被综合设计以使所述发射模组具有第一畸变特征。
5.如权利要求1所述的距离测量系统，其特征在于，所述发射模组包括阵列光源和投影透镜。
6.如权利要求5所述的距离测量系统，其特征在于，所述阵列光源上的子光源排列是具有第一畸变特征的二维排列图案；
或，所述投影透镜具有第一畸变特征；
或，所述阵列光源上的子光源排列以及所述投影透镜被综合设计以使所述发射模组具有第一畸变特征。
7.一种距离测量系统，其特征在于，包括：
发射模组，包含阵列光源以及投影透镜，用于发射斑点图案光束；
采集模组，包含成像透镜以及阵列像素单元，用于采集被反射的所述斑点图案光束；
处理电路，与所述发射模组以及所述采集模组连接，用于计算所述发射光束与所述反射光束之间的飞行时间；
所述阵列光源上的子光源排列是具有第一畸变特征的二维排列图案，所述投影透镜具有第二畸变特征，所述第一畸变特征与所述第二畸变特征相互补偿。
8.如权利要求7所述的距离测量系统，其特征在于，所述第一畸变特征为桶形畸变特征或枕形畸变特征，所述第二畸变特征为枕形畸变特征或桶形畸变特征。
9.一种距离测量系统，其特征在于，包括：
发射模组，包含阵列光源、投影透镜以及空间光调制器，用于发射斑点图案光束；
采集模组，包含成像透镜以及阵列像素单元，用于采集被反射的所述斑点图案光束；
处理电路，与所述发射模组以及所述采集模组连接，用于计算所述发射光束与所述反射光束之间的飞行时间；
所述阵列光源上的子光源排列和/或所述空间光调制器的衍射图案是具有第一畸变特征的二维排列图案；所述投影透镜具有第二畸变特征，所述第一畸变特征与所述第二畸变特征相互补偿。
10.如权利要求9所述的距离测量系统，其特征在于，所述第一畸变特征为桶形畸变特征或枕形畸变特征，所述第二畸变特征为枕形畸变特征或桶形畸变特征。
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