[发明专利]离子布植装置及方法

权利要求书

1.一种离子布植装置，其特征在于，包含：

一离子植入机，包含一离子扫描器，该离子植入机经配置以在一靶上以一角度范围扫描由一基板反射的一离子束；

一倾斜机构，该倾斜机构经配置以支撑该靶并使该靶倾斜；

多个离子收集设备，排列成一圆顶形状，所述多个离子收集设备经配置以自该靶上的该离子束扫描收集由该靶所喷射出的多个喷射离子的一分布及一数目，其中该离子植入机的该离子扫描器配置在所述多个离子收集设备的其中一者上，且该离子扫描器位于所述多个离子收集设备的其中该者和该基板之间；以及

一控制单元，该控制单元经配置以基于一校正角度来调整一倾斜角度，该校正角度是基于所述多个喷射离子的该分布及数目确定。

2.根据权利要求1所述的离子布植装置，其特征在于，其中所述多个喷射离子的该分布及数目包含分布在该角度范围内的多个角度子范围中的离子的一百分比，且其中该校正角度是基于该百分比的一加权和乘以该多个角度子范围的一平均角度。

3.根据权利要求2所述的离子布植装置，其特征在于，其中该角度范围的一上限等于该离子植入机的一最大扫描角度。

4.根据权利要求1所述的离子布植装置，其特征在于，该倾斜机构包括一倾斜台、一负载支撑部分或一基板固持器。

5.根据权利要求1所述的离子布植装置，其特征在于，其中所述多个离子收集设备包括一原子探针。

6.根据权利要求1所述的离子布植装置，其特征在于，其中回应于该校正角度为一正值，该经调整倾斜角度等于该倾斜角度与该校正角度的一和，且其中回应于该校正角度为一负值，该经调整倾斜角度等于该倾斜角度与该校正角度的一差。

7.根据权利要求6所述的离子布植装置，其特征在于，其中该倾斜机构经配置以使该靶倾斜以便回应于该经调整倾斜角度等于该倾斜角度与该校正角度的该和而增大该倾斜角度，以及回应于该经调整倾斜角度等于该倾斜角度与该校正角度的该差而减少该倾斜角度。

8.根据权利要求1所述的离子布植装置，其特征在于，其中该控制单元包括一微控制器。

9.根据权利要求1所述的离子布植装置，其特征在于，进一步包括一通信机构提供该离子植入机、该倾斜机构、该离子收集设备，和该控制单元之间的通信，其中该通信机构包括一区域网络(LAN)及一WiFi网络中的至少一者。

10.一种离子布植的方法，其特征在于，包含：

在一靶上以一角度范围扫描一离子束，其中该角度范围包括多个角度子范围，每一个所述多个角度子范围具有一平均角度；

经由排列成一圆顶形状的多个离子收集设备，收集由该靶所喷射出的多个喷射离子的一数据；

计算每一个所述多个角度子范围中所述多个喷射离子的一数目除以所述多个喷射离子的一总数目以得到一加权百分比；

加总该些角度子范围的该些平均角度和该些角度子范围所对应的该些加权百分比的乘积以得到一校正角度；以及

基于该校正角度来调整该靶的一倾斜角度。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，进一步包括通过一离子布植设备产生该离子束。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，其中调整该倾斜角度包含：

回应于该校正角度为一正值而将该校正角度与该倾斜角度相加；以及

回应于该校正角度为一负值而自该倾斜角度减去该校正角度。

13.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，其中调整该倾斜角度包含旋转该靶以使得该离子束与该靶表面之间的一角度等于该倾斜角度。

14.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，进一步包括提供一基板作为该靶。