[发明专利]针对调制器衍射效应优化的投影仪有效
申请号: | 201910769198.2 | 申请日: | 2013-03-15 |
公开(公告)号: | CN110456499B | 公开(公告)日: | 2023-01-24 |
发明(设计)人: | A·F·库尔茨;G·E·诺萨尔德 | 申请(专利权)人: | 图像影院国际有限公司 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;G03B21/00;G03B21/20;H04N5/74;H04N9/31 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;姚杰 |
地址: | 爱尔兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 针对 调制器 衍射 效应 优化 投影仪 | ||
1.一种表征光显示系统的第一微镜阵列光学调制器和第二微镜阵列光学调制器的性能的方法,所述方法包括:
(a)检测产生自所述第一微镜阵列光学调制器上的第一入射光束的光的衍射阶的排列,或测量产生自所述第一微镜阵列光学调制器上的第一入射光束的光收集效率和对比度,所述第一微镜阵列光学调制器正在相对于光学元件、以开启状态条件和关闭状态条件调制所述第一入射光束的光谱带宽,所述光学元件具有透射调制光束的部分、并且阻挡所述调制光束的剩余部分的尺寸和形状的孔径;
(b)检测产生自所述第二微镜阵列光学调制器上的第二入射光束的光的衍射阶的所述排列,或测量产生自所述第二微镜阵列光学调制器上的所述第二入射光束的所述光收集效率和所述对比度,所述第二微镜阵列光学调制器正在相对于所述光学元件、以所述开启状态条件和所述关闭状态条件调制所述第二入射光束;以及
(c)基于针对所述第一微镜阵列光学调制器和所述第二微镜阵列光学调制器的每个微镜阵列光学调制器检测到的光的衍射阶的所述排列、或测量的所述光收集效率和所述对比度,对所述第一微镜阵列光学调制器或所述第二微镜阵列光学调制器进行分类。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,对所述第一微镜阵列光学调制器或所述第二微镜阵列光学调制器进行分类是基于针对所述第一微镜阵列光学调制器和所述第二微镜阵列光学调制器测量的衍射偏手性图案。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一入射光束和所述第二入射光束来自激光源、并且与单个颜色相关联。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一入射光束和所述第二入射光束来自三个主光源中的一个主光源,所述三个主光源是激光投影系统中的激光光源。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一入射光束和所述第二入射光束来自六个主光源中的一个主光源,所述六个主光源是激光投影系统中的激光光源。
6.如权利要求1所述的方法,其中所述第一微镜阵列光学调制器和第二微镜阵列光学调制器中的每个微镜阵列光学调制器包括尺寸在10-20个可见光波长的量级上的微镜。
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