[发明专利]显示装置及其制造方法在审
申请号: | 201910769913.2 | 申请日: | 2019-08-20 |
公开(公告)号: | CN110854303A | 公开(公告)日: | 2020-02-28 |
发明(设计)人: | 金湘甲;赵炫珉;金泰圣;丁有光;裵水斌;金真锡;金相均;高效敏;赵吉元;李汉松 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司;浦项工科大学校产学协力团 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32 |
代理公司: | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人: | 李强;李志新 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种显示装置的制造方法,其中,所述制造方法包括:
在基底上形成晶体管;
在所述晶体管上形成绝缘层;
在所述绝缘层上形成包括银的导电层;
在所述导电层上形成感光构件;
通过蚀刻所述导电层形成发光元件的电极;
对包括所述电极的结构执行等离子体处理,所述等离子体处理使用包括卤素的气体;以及
去除由所述等离子体处理导致的产物。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其中,
所述产物是卤化银。
3.根据权利要求2所述的制造方法,其中,
所述卤化银是氟化银。
4.根据权利要求1所述的制造方法,其中,
使用包括氟的气体执行所述等离子体处理。
5.根据权利要求1所述的制造方法,其中,
使用包括CF4的气体执行所述等离子体处理。
6.根据权利要求5所述的制造方法,其中,
使用包括N2的气体执行所述等离子体处理。
7.根据权利要求6所述的制造方法,其中,
使用包括O2的气体执行所述等离子体处理。
8.一种显示装置,其中,所述显示装置包括:
基底;
发光元件,所述发光元件设置在所述基底上;以及
焊盘,所述焊盘设置在所述基底上并且与所述发光元件间隔开,
其中,所述焊盘的表面包括金属氟化物。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其中,
所述焊盘的所述表面包括金属氮化物。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其中,
所述焊盘的所述表面包括金属氧化物。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择