[发明专利]一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置

权利要求书

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成具有隔离柱槽的下层bank结构，所述下层bank结构具有亲水特性；

在所述下层bank结构上对应形成上层bank结构，所述上层bank结构具有疏水特性。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述下层bank结构的材料为负性光阻，所述上层bank结构的材料为正性光阻。

3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成具有隔离柱槽的下层bank结构，包括：

在所述衬底基板上涂布一层负性光阻材料；

利用曝光、显影和刻蚀工艺处理所述负性光阻材料得到具有所述隔离柱槽的下层bank结构。

4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，利用曝光、显影和刻蚀工艺处理所述负性光阻材料得到具有隔离柱槽的下层bank结构，包括：

在所述负性光阻材料上形成第一掩膜层；

对所述第一掩膜层和所述负性光阻材料进行曝光、显影和刻蚀处理得到具有所述隔离柱槽的下层bank结构。

5.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述下层bank结构上形成对应形成上层bank结构，包括：

在所述下层bank结构上涂布一层正性光阻材料；

利用曝光、显影和刻蚀工艺处理所述正性光阻材料得到所述上层bank结构。

6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，利用曝光、显影和刻蚀工艺处理所述正性光阻材料得到所述上层bank结构，包括：

在所述正性光阻材料上形成第二掩膜层；

对所述第二掩膜层和所述正性光阻材料进行曝光、显影和刻蚀处理，得到所述上层bank结构。

7.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述下层bank结构上形成对应形成上层bank结构之后，还包括：

将色阻材料注入所述隔离柱槽形成色阻层。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在将色阻材料注入所述隔离柱槽形成色阻层之后，还包括：

利用去阻剂将所述上层bank结构从所述下层bank结构进行剥离。

9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板通过权利要求1-8任一项所述的显示面板的制备方法进行制备。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。