[发明专利]液晶面板的维修方法及液晶面板在审
| 申请号： | 201910772467.0 | 申请日： | 2019-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN110441938A | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 吴国东;陈平;王贺卫;吴松;汤晨;沐明明;李俊峰;胡海涛;陈伏盖;季帅;于浩 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王莉莉 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥市新*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 液晶面板 亮点像素 维修 激光烧灼 滤光基板 阵列基板 透光区 遮光区 | ||
1.一种液晶面板的维修方法，用于对液晶面板的亮点像素进行维修，所述维修方法包括：
从阵列基板远离滤光基板的一侧，对液晶面板的亮点像素进行激光烧灼，使阵列基板正对亮点像素的部分由透光区转变为遮光区。
2.根据权利要求1所述的维修方法，其中，所述阵列基板包括沿远离衬底方向依次设置的第一透明电极、无机绝缘层和第二透明电极，第一透明电极呈面状，第二透明电极具有狭缝结构；所述从阵列基板远离滤光基板的一侧，对液晶面板的亮点像素进行激光烧灼，包括：
从阵列基板远离滤光基板的一侧，将阵列基板正对亮点像素的部分的第一透明电极、无机绝缘层和第二透明电极烧结为遮光的非均相混合物。
3.根据权利要求1所述的维修方法，其中，所述阵列基板包括叠层设置的无机绝缘层和透明电极；所述从阵列基板远离滤光基板的一侧，对液晶面板的亮点像素进行激光烧灼，包括：
从阵列基板远离滤光基板的一侧，将阵列基板正对亮点像素的部分的无机绝缘层和透明电极烧结为遮光的非均相混合物。
4.根据权利要求2或3所述的维修方法，其中，所述从阵列基板远离滤光基板的一侧，对液晶面板的亮点像素进行激光烧灼，还包括：
从阵列基板远离滤光基板的一侧，将阵列基板正对亮点像素的部分的配向层灼烧以使其碳化，以及将滤光基板正对亮点像素的部分的配向层灼烧以使其碳化。
5.根据权利要求4所述的维修方法，其中，所述从阵列基板远离滤光基板的一侧，对液晶面板的亮点像素进行激光烧灼，包括：
从阵列基板远离滤光基板的一侧，沿着与阵列基板的数据线平行的方向，按照先两侧后中间的顺序对液晶面板的亮点像素进行多道激光烧灼。
6.根据权利要求5所述的维修方法，其中：
所述激光的波长为1030～1064纳米，所述激光的频率为125～165千赫，所述激光的扫描速度为265～335微米/秒，所述激光的光斑长径为4～10微米，短径为2.5～6微米。
7.根据权利要求6所述的维修方法，其中：
所述激光的波长为1030纳米，所述激光的频率为125千赫，所述激光的扫描速度为280微米/秒，所述激光的光斑长径为4微米，短径为2.5微米。
8.根据权利要求6所述的维修方法，其中：
所述激光的波长为1030纳米，所述激光的频率为150千赫，所述激光的扫描速度为300微米/秒，所述激光的光斑长径为6微米，短径为4微米。
9.根据权利要求6所述的维修方法，其中：
所述激光的波长为1030纳米，所述激光的频率为165千赫，所述激光的扫描速度为300微米/秒，所述激光的光斑长径为4微米，短径为2.5微米。
10.根据权利要求6所述的维修方法，其中：
所述激光的波长为1030纳米，所述激光的频率为130千赫，所述激光的扫描速度为295微米/秒，所述激光的光斑长径为5微米，短径为4微米。
11.根据权利要求1所述的维修方法，其中：所述液晶面板包括采用遮光矩阵扩散法和/或滤光层碳化法维修失败的液晶面板。
12.一种液晶面板，所述液晶面板根据权利要求1-11任一项所述的维修方法维修后得到。
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