[发明专利]一种光场相机辐射采样探测光线处理方法有效
申请号: | 201910776869.8 | 申请日: | 2019-08-21 |
公开(公告)号: | CN110646095B | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 张彪;王志博;王晨;许传龙;齐琪 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G01J5/00 | 分类号: | G01J5/00 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 211100 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 相机 辐射 采样 探测 光线 处理 方法 | ||
1.一种光场相机成像辐射采样探测光线处理方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤一、对实际相机标定,获得相机参数;
步骤二、对含火焰的计算区域进行三维网格划分,并对划分的三维网格进行编号;
步骤三、根据几何光学和相机参数对采样光线逆向追迹,统计采样光线所穿过的火焰网格个数;
步骤四、对采样光线中的无效光线、低效光线以及探测路径重复的采样光线进行剔除;
步骤五、对探测光线数量少和火焰轮廓处,增加采样光线的数量;
步骤四中,无效光线为未经过任何火焰网格的采样光线,低效光线为穿过网格个数少于3个的采样光线,探测路径重复的采样为探测面上相邻像素所追迹路线基本一致的采样光线。
2.根据权利要求1所述的光场相机成像辐射采样探测光线处理方法,其特征在于,所述相机参数包括主透镜与微透镜焦距、主透镜-微透镜距离、微透镜-CCD距离及物距。
3.根据权利要求1所述的光场相机成像辐射采样探测光线处理方法,其特征在于,所述步骤二中火焰计算区域内网格的外法线应与相机主光轴夹角不小于20°。
4.根据权利要求1所述的光场相机成像辐射采样探测光线处理方法,其特征在于,对步骤三中按照采样光线所穿过的网格总个数进行升序排序。
5.根据权利要求1所述的光场相机成像辐射采样探测光线处理方法,其特征在于,步骤五中,增加采样光线数量的方法是从步骤四中剔除的光线中选取。
6.根据权利要求1所述的光场相机成像辐射采样探测光线处理方法,其特征在于,增加采样光线数量使需增加的网格的光线数量与不需要增加光线的网格的光线平均数之间的差值在设定的范围内。
7.根据权利要求1所述的光场相机成像辐射采样探测光线处理方法,其特征在于,步骤五中根据光场图像获得火焰轮廓面处的网格编号,由于火焰轮廓处温度梯度较大,该处的采样光线数量增加至光线均值的1~1.5倍。
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