[发明专利]一种清水研磨抛光工艺

权利要求书

1.一种清水研磨抛光工艺，其特征在于，所述清水研磨抛光工艺包括以下步骤：

第一阶段为使用粗磨抛光研磨盘进行20～30min粗磨，所述粗磨抛光研磨盘包括粗磨研磨剂；

第二阶段为使用精磨抛光研磨盘进行15～25min精磨，所述精磨抛光研磨盘包括精磨研磨剂；

第三阶段为使用精抛抛光研磨盘进行5～15min抛光，所述精抛抛光研磨盘包括精抛研磨剂；

所述粗磨研磨剂占所述粗磨抛光研磨盘的45～75wt％；

所述粗磨研磨剂的目数为700～1000目；

所述精磨研磨剂占所述精磨抛光研磨盘的45～78wt％；

所述精磨研磨剂的目数为2500～3200目；

所述精抛研磨剂占所述精抛抛光研磨盘的45～85wt％；

所述精抛研磨剂的粒径为10～50nm；

所述研磨剂包括粗磨研磨剂、精磨研磨剂和精抛研磨剂，所述研磨剂选自碳化物、氧化物、金刚石中的一种或多种；

所述的抛光研磨盘的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将聚氨酯、研磨剂和溶剂混合，得到胶体，将基布浸渍在所述胶体中，凝固，水洗、干燥得到所述抛光研磨盘；

所述聚氨酯的制备原料包括多元醇和4,4’-二氨基二苯甲烷；所述4,4’-二氨基二苯甲烷和多元醇摩尔比为(0.1～0.25)：1；

所述聚氨酯的制备原料中还包括1,4-双(3-氨基丙基)哌嗪；所述1,4-双(3-氨基丙基)哌嗪与4,4’-二氨基二苯甲烷的摩尔比例(1～1.5)：1；

所述胶体中还包括分散剂；所述分散剂为聚丙烯酸钠和丙烯酸-马来酸共聚物，所述聚丙烯酸钠和丙烯酸-马来酸共聚物的重量比为(2：3)～(3：2)。