[发明专利]OPC修正方法及OPC修正装置

权利要求书

1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括如下步骤：

分割一掩膜图案的边缘，形成多个片段；

根据一预设规则获取每一所述片段中的原点；

分别对每一所述原点进行多次循环步骤，获取与每一所述原点对应的多个重叠面积；

根据各原点之间重叠面积的匹配程度对多个所述原点进行分组；

采用相同的补偿值对同一组内各原点所在的片段进行修正；

所述循环步骤包括：

自所述原点向外延伸预设距离，形成关于所述原点中心对称的评估图形；

获取所述评估图形与所述掩膜图案之间的重叠面积，并以所述评估图形整体作为下一次循环的原点。

2.根据权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，形成多个片段的具体步骤包括：

均等分割一掩膜图案的每一条边缘，形成多个片段。

3.根据权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，根据一预设规则获取每一所述片段中的原点的具体步骤包括：

获取每一所述片段的中点位置，以所述中点作为原点。

4.根据权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，与每一所述原点对应的多个所述重叠面积按从小到大的顺序依次排列；根据各原点之间重叠面积的匹配程度对多个所述原点进行分组的具体步骤包括：

判断任意两个所述原点的前若干个重叠面积是否均相同，若是，则将这两个所述原点归为同一组。

5.根据权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，与每一所述原点对应的多个所述重叠面积按从小到大的顺序依次排列；根据原点之间重叠面积的匹配程度对多个所述原点进行分组的具体步骤包括：

判断任意两个所述原点的所有重叠面积是否均相同，若是，则将这两个所述原点归为同一组。

6.根据权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，所述评估图形的形状为正多边形或者圆形。

7.根据权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，所述预设距离为1nm～10nm。

8.一种OPC修正装置，其特征在于，包括：

分割模块，用于分割一掩膜图案的边缘，以形成多个片段；

获取模块，连接所述分割模块，用于根据一预设规则获取每一所述片段中的原点；

处理模块，连接所述获取模块，用于分别对每一所述原点进行多次循环步骤，获取与每一所述原点对应的多个重叠面积；

分组模块，连接所述处理模块，用于根据各原点之间重叠面积的匹配程度对多个所述原点进行分组；

修正模块，连接所述分组模块，用于采用相同的补偿值对同一组内各原点所在的片段进行修正；

所述循环步骤包括：

自所述原点向外延伸预设距离，形成关于所述原点中心对称的评估图形；

获取所述评估图形与所述掩膜图案之间的重叠面积，并以所述评估图形整体作为下一次循环的原点。

9.根据权利要求8所述的OPC修正装置，其特征在于，所述分割模块用于均等分割一掩膜图案的每一条边缘，形成多个片段。

10.根据权利要求8所述的OPC修正装置，其特征在于，所述获取模块用于获取每一所述片段的中点位置，以所述中点作为原点。

11.根据权利要求8所述的OPC修正装置，其特征在于，与每一所述原点对应的多个所述重叠面积按从小到大的顺序依次排列；

所述分组模块用于判断任意两个所述原点的前若干个重叠面积是否均相同，若是，则将这两个所述原点归为同一组。

12.根据权利要求8所述的OPC修正装置，其特征在于，与每一所述原点对应的多个所述重叠面积按从小到大的顺序依次排列；

所述分组模块用于判断任意两个所述原点的所有重叠面积是否均相同，若是，则将这两个所述原点归为同一组。