[发明专利]防反射硬涂膜及其制备方法

权利要求书

1.一种防反射硬涂膜，包括：

基材；

硬涂层，其设置在所述基材上，并且所述硬涂层的水接触角为90°以下；

高折射率层，其设置在所述硬涂层上；以及

低折射率层，其设置在所述高折射率层上，

其中，裁剪成相对于机器方向以45°角度倾斜且为正方形的防反射硬涂膜的作为从最低位置处到顶点的垂直高度测量的卷曲量为5mm以下，

所述硬涂层是硬涂层形成用组合物的固化层，所述硬涂层形成用组合物包含环氧硅氧烷树脂、热引发剂及光引发剂，所述热引发剂包含由以下化学式2表示的化合物，

[化学式2]

所述化学式2中，R³为氢、碳原子数为1～4的烷氧羰基、碳原子数为1～4的烷基羰基或碳原子数为6～14的芳基羰基，R⁴各自独立地为氢、卤素或碳原子数为1～4的烷基，n为1～4，R⁵为碳原子数为1～4的烷基或可被碳原子数为1～4的烷基取代的碳原子数为7～15的芳烷基，R⁶为碳原子数为1～4的烷基，X为SbF₆、PF₆、AsF₆、BF₄、CF₃SO₃、N(CF₃SO₂)₂或N(C₆F₅)₄。

2.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述固化层是所述硬涂层形成用组合物经过光固化后热固化而形成。

3.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述硬涂层形成用组合物进一步包含交联剂，所述交联剂包含由以下化学式1表示的化合物:

[化学式1]

所述化学式1中，R¹及R²各自独立地为碳原子数为1～5的直链或支链的烷基，X为直接键，羰基，碳酸酯基，醚基，硫醚基，酯基，酰胺基，碳原子数为1～18的直链或支链的亚烷基、烷叉基或亚烷氧基，碳原子数为1～6的环亚烷基或环烷叉基，或它们的连接基团。

4.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述高折射率层包含金属氧化物或金属氮化物。

5.根据权利要求4所述的防反射硬涂膜，其中，所述金属氧化物或金属氮化物的金属包括选自铌、锆及铟中的一种以上。

6.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述低折射率层包含无机氧化物。

7.根据权利要求6所述的防反射硬涂膜，其中，所述无机氧化物包括二氧化硅。

8.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述高折射率层的折射率为1.6～2.6，所述低折射率层的折射率为1.38～1.45。

9.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述硬涂层的折射率为1.49～1.54。

10.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，将所述高折射率层及所述低折射率层定义为防反射层叠体时，所述防反射层叠体重复层叠2～4次。

11.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述防反射硬涂膜进一步包括防污层，所述防污层设置在所述低折射率层上且包含金属氟化物。

12.根据权利要求11所述的防反射硬涂膜，其中，所述金属氟化物的金属包括镁或钡。