[发明专利]一种耐高温的受阻胺光稳定剂及其制备方法

说明书

本发明提供了一种耐高温的受阻胺光稳定剂及其制备方法，所述受阻胺光稳定剂由哌啶胺衍生物与至少含有一个酸酐基团的有机化合物经两步反应制备得到。所述受阻胺光稳定剂的热稳定性优异、功能基密度大、分子结构对称性高、与基材相容性好的耐高温受阻胺光稳定剂，同时其制备方法简单，环保无污染，具有工业化生产前景，所得的耐高温受阻胺光稳定剂特别适用于加工温度要求高的树脂体系。

技术领域

本发明属于光稳定剂领域，涉及一种耐高温的受阻胺光稳定剂及其制备方法。

背景技术

老化是高分子材料的一种自然特性，是高分子材料在合成、改性以及应用中需考虑的一项重要的指标。高分子材料在光、热、氧等条件下，极容易发生降解。高分子材料在热处理过程中容易发生氧化降解，从而使得分子链发生断裂、相对分子质量降低、性能衰减、并伴随着材料颜色发生变化。因此，如何提高高分子材料的稳定性成为当前研究的热点。

受阻胺类稳定剂(HAS)是20世纪70年代中期由日本三共公司研发的一类新型的高效稳定剂，主要应用于防止塑料、橡胶等高分子材料的老化，是目前应用最广、发展最快的一类稳定剂。对HAS的研究表明，它是一类多功能稳定剂，不仅具有光稳定性，而且还具有热稳定性和抗氧性等性能。近几十年来，受阻胺类稳定剂一直是研究最为活跃的领域，不断有新品问世。

专利CN1789249A公开了一种含受阻胺基团的取代苯甲酰胺中间体及其制备方法，其采用硝基取代苯甲酰氯与1-R-4-氨基-2,2,6,6-四甲基哌啶为原料，经溶剂回收、调pH、抽滤、洗涤、干燥、氢化，最终得到目标光稳定剂，合成过程较为繁琐。

专利CN101381477B公开了一种新型受阻胺光稳定剂及其合成方法，其以α,β-不饱和羧酸酯和二胺类化合物为原料，经加成、酯交换和重结晶后，得到最终产物。

中国专利CN101367792B公开了一种含受阻胺基团的苯并三唑光稳定剂，其选用苯并三唑衍生物和哌啶醇衍生物为原料，并加入二丁基氧化锡作为催化剂，20℃～70℃下反应6～8h，反应完后，经降温、过滤和干燥，再用乙酸乙酯重结晶后得到目标产物，产率约为55％。

综上可知，目前的受阻胺光稳定剂的合成方法各有特点，但是由于其结构上的不足，使其在添加到高分子材料的过程中会存在混合不均匀的问题，与聚合物处于游离的共混状态，必然会影响聚合物的性能和限制其光稳定效果。另一方面，目前所知的受阻胺类光稳定剂的分解温度在280℃左右，限制了其在加工温度要求高的树脂(如：高温尼龙、聚苯硫醚和聚醚醚酮等)中的应用。

发明内容

针对现有技术中存在的问题，本发明提供了一种受阻胺光稳定剂及其制备方法，具体的选用至少含有一个酸酐基团的有机化合物和哌啶胺衍生物为原料，通过简单两步反应，制得受阻胺光稳定剂。所述受阻胺光稳定剂的热稳定性优异、功能基密度大、分子结构对称性高、与基材相容性好的耐高温受阻胺光稳定剂，同时其制备方法简单，环保无污染，具有工业化生产前景，所得的耐高温受阻胺光稳定剂特别适用于加工温度要求高的树脂体系。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种受阻胺光稳定剂，所述受阻胺光稳定剂由具有式(I)结构的哌啶胺衍生物与至少含有一个酸酐基团的有机化合物经两步反应制备得到

其中，R₁为H、C₁～C₆烷基或C₁～C₆烷氧基中任意一种或至少两种的组合。

以下作为本发明优选的技术方案，但不作为本发明提供的技术方案的限制，通过以下技术方案，可以更好地达到和实现本发明的技术目的和有益效果。