[发明专利]光学成像膜有效
| 申请号： | 201910791496.1 | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN112433271B | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 郑伟伟;申溯;张海英 | 申请（专利权）人： | 昇印光电（昆山）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B3/08 |
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| 地址： | 215316 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 成像 | ||
1.一种光学成像膜，其特征在于，包括：
成像层，所述成像层包括多个呈周期分布的成像结构；
微图文层，所述微图文层包括多个周期分布的微图文，且所述微图文与所述成像结构对应设置，以使所述光学成像膜形成一个具有放大效果的目标图像；
其中，所述微图文为所述目标图像的部分图形，且多个所述微图文能够组成与所述目标图像一致的完整图形，所有的所述微图文能够对应组成一个完整微图文；
所述微图文为所述完整图形的部分图文；所述完整图形N等分，且各所述微图文中，至少部分所述微图文大于所述完整图形的1/N；
每个所述微图文的部分图文对应的完整微图文的分布超过所述微图文所在的单元区域。
2.根据权利要求1所述的光学成像膜，其特征在于，所述微图文包括印刷图文、浮雕图文、填充图文中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的光学成像膜，其特征在于，所述成像结构为柱面镜、微透镜或菲涅尔透镜中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的光学成像膜，其特征在于，所述光学成像膜还包括基材层，所述成像层和所述微图文层分别设置于所述基材层的两侧。
5.根据权利要求4所述的光学成像膜，其特征在于，所述微图文层采用丝印或刻蚀的方式设置于所述基材层的背离所述成像层的一侧。
6.根据权利要求4所述的光学成像膜，其特征在于，所述基材层的背离所述成像层的一侧设置有凹陷部；
所述凹陷部形成所述微图文层，且在所述凹陷部内填充有色填料。
7.根据权利要求4所述的光学成像膜，其特征在于，所述成像层由UV胶压印固化设置于所述基材层的背离所述微图文层的一侧。
8.根据权利要求4所述的光学成像膜，其特征在于，所述光学成像膜还包括反射层，所述反射层设置于所述成像层的背离所述基材层的一侧。
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