[发明专利]一种屏缺陷检测方法和系统在审
| 申请号： | 201910791596.4 | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN110596139A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 洪志坤;张胜森;欧昌东;郑增强 | 申请（专利权）人： | 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/94;G01N21/88 |
| 代理公司： | 42224 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 雷霄 |
| 地址： | 430205 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 缺陷点 成像装置 缺陷检测 参考点 预设 比较判断 连续成像 区分处理 视图获取 判定 | ||
1.一种屏缺陷检测方法，其特征在于，包括：
采用设置在屏前不同角度的第一成像装置和第二成像装置对屏进行连续成像获取第一视图和第二视图；
根据所述第一视图和第二视图获取缺陷点，并根据所述第一视图中所述缺陷点到预设参考点的第一距离和所述第二视图中同一所述缺陷点到所述预设参考点的第二距离的比较判断该缺陷点在所述屏的层位置。
2.如权利要求1所述的一种屏缺陷检测方法，其特征在于，所述判断该缺陷点在所述屏的层位置具体是：
若所述第一距离和所述第二距离的差值小于或等于第一预设阈值，则判定所述缺陷点位于屏上表面，若所述差值大于所述第一预设阈值，则判定所述缺陷点位于屏下层。
3.如权利要求2所述的一种屏缺陷检测方法，其特征在于，所述判定所述缺陷点位于屏下层具体是：
所述缺陷点位于屏下层的具体层位置是根据所述第一距离和所述第二距离的差值大小确定，即所述差值越大，所述缺陷点所在层越远离所述屏上表面。
4.如权利要求2所述的一种屏缺陷检测方法，其特征在于，所述第一预设阈值是根据所述缺陷点在与屏表面平行的平面坐标系中的水平坐标位置预先设置的。
5.如权利要求1至4任一项所述的一种屏缺陷检测方法，其特征在于，所述第一成像装置被设置在屏正前方，所述第二成像装置被设置在屏侧前方。
6.如权利要求5所述的一种屏缺陷检测方法，其特征在于，所述第一成像装置和/或第二成像装置为线扫相机。
7.一种屏缺陷检测系统，其特征在于，包括：
设置在屏前不同角度的第一成像装置和第二成像装置，用来对屏进行连续成像获取第一视图和第二视图；
控制装置，用来根据所述第一视图和第二视图获取缺陷点，并根据所述第一视图中所述缺陷点到预设参考点的第一距离和所述第二视图中所述缺陷点到所述预设参考点的第二距离的比较判断该缺陷点在所述屏的层位置。
8.如权利要求7所述的一种屏缺陷检测系统，其特征在于，所述第一成像装置被设置在屏正前方，所述第二成像装置被设置在屏侧前方。
9.如权利要求7或8所述的一种屏缺陷检测系统，其特征在于，所述第一成像装置和/或第二成像装置均线扫相机。
10.如权利要求7或8所述的一种屏缺陷检测系统，其特征在于，所述第一成像装置到屏中心点的连线与所述第二成像装置到屏中心点的连线所形成的夹角范围为30°～45°。
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