[发明专利]一种运行压力可调式O3/H2O2/UV高级氧化系统及其运行工艺在审

专利信息
申请号: 201910793355.3 申请日: 2019-08-27
公开(公告)号: CN110386634A 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 于振滨;王存峰;刘德民;朱清江;郭丕健 申请(专利权)人: 青岛思普润水处理股份有限公司
主分类号: C02F1/32 分类号: C02F1/32;C02F1/72;C02F1/78
代理公司: 青岛智地领创专利代理有限公司 37252 代理人: 张红凤
地址: 266500 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 高级氧化系统 反应器 紫外线照射装置 运行压力 压力调节装置 臭氧扩散器 可调式 水处理技术领域 系统压力调节阀 臭氧利用率 压力显示器 紫外线照射 臭氧尾气 出水单元 电控系统 技术应用 进水单元 协同催化 控制阀 投加器 上端 出水 进水 下端 臭氧 催化 去除 污染物 穿过 拓展
【说明书】:

发明公开了一种运行压力可调式O3/H2O2/UV高级氧化系统及其运行工艺,属于水处理技术领域。其解决了反应器运行压力不足、臭氧利用率不高、O3/H2O2/UV高级氧化系统效率低的技术问题。其包括反应器、进水单元、出水单元、紫外线照射装置、臭氧扩散器、H2O2投加器和压力调节装置,反应器从下端进水,穿过紫外线照射装置后从上端出水;臭氧扩散器设置在反应器的底部;紫外线照射装置通过紫外电控系统对其紫外线照射能量进行调节,压力调节装置包含臭氧尾气控制阀、系统压力调节阀、压力显示器。本发明基于臭氧并集成UV催化和H2O2协同催化形成O3/H2O2/UV高级氧化系统,提高了系统去除污染物效果、拓展了O3/H2O2/UV技术应用范围。

技术领域

本发明属于水处理技术领域,具体涉及一种运行压力可调式O3/H2O2/UV高级氧化系统及其运行工艺。

背景技术

O3/H2O2/UV高级氧化工艺可以产生强氧化性羟基自由基(·OH),该自由基可将大分子难降解有机污染物断链、开环,实现污染物降解。目前,O3/H2O2/UV高级氧化工艺已运用于市政污水与工业废水深度处理领域,并取得了良好的效果。

O3/H2O2/UV高级氧化工艺通过以下反应原理产生·OH:

O3+hv→O2+O(1D)

O(1D)+H2O→2·OH

O3+OH-→HO2-+O2

O3+HO2-→·OH+O2-+O2

H2O2+hv→2·OH

通过以上反应原理可知,O3/H2O2/UV工艺中O3浓度、H2O2浓度、UV剂量均是产生·OH的重要影响因素,可通过调整O3、H2O2、UV三个系统的运行工况优化O3/H2O2/UV工艺的运行效果;其中,水中O3浓度与溶液温度、操作压力、pH、水中成分、臭氧气体浓度等有关;有研究表明,操作压力是影响臭氧浓度的重要因素,一般操作压力越高,水中臭氧浓度越高。工程中,基于臭氧的高级氧化系统一般通过有效水深控制系统操作压力,设计水深一般不低于5m。

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