[发明专利]一种芯片三维多面之间的键合互连方法有效
申请号: | 201910793398.1 | 申请日: | 2019-08-27 |
公开(公告)号: | CN110690128B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 李波;夏俊生;臧子昂;李文才 | 申请(专利权)人: | 华东光电集成器件研究所 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/48 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 | 代理人: | 陈俊 |
地址: | 233030 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 芯片 三维 多面 之间 互连 方法 | ||
本发明公开一种芯片三维多面之间的键合互连方法,包括:a、在三维多面电路基板的侧边制作基片侧连PAD;基片侧连PAD作为相邻电路基板相互键合的媒介;通过基片侧连PAD,使相邻电路基板间的三维键合转化为二维键合,利用平面键合工艺即实现相邻电路基板间的键合;b、将引线柱的外圆面制作出平面,形成引线柱PAD,引线柱PAD与相对应的电路基板相平行,使引线柱与电路基板间的三维键合转化为二维键合,利用平面键合工艺即实现引线柱与相对应电路基板间的键合;本发明基于常规成熟的平面键合连线工艺,通过将三维键合转化为二维键合,实现不同维度面之间的键合互连,且不形成三维键合线弧或三维焊接线弧,提高键合质量。
技术领域
本发明涉及微电路组封装技术领域,具体是一种芯片三维多面之间的键合互连方法。
背景技术
近年来,随着微电子技术的发展,叠层封装(POP)、系统级封装(SIP)等三维封装技术取代了单芯片封装,大幅提高了芯片封装密度,减少了封装尺寸和重量,但由于这些技术均采用了同维度二维平面键合技术(键合实现同平面内,芯片之间、芯片与导带、导带与外引线柱端面),受制于此,无法实现不同维度面之间键合连线,限制了封装尺寸、成本和可靠性的进一步提升。
目前,发展出了三维六面立体组装结构,其中5个面安装电路,1个面安装电路外接引线柱。该结构进一步降低了电路封装尺寸,提高了电路散热、粘接强度等可靠性,6个面中,面与面之间的连接主要有以下2种方式:
一、三维线弧键合法
例如《一种面向MEMS的三维封装装置及三维封装方法》(公开号CN201610108660)”的中国专利,其主要原理为,在完成MEMS器件一个面第一点键合后,通过固定器件的装置的旋转和定位,将第二键合点所在平面旋转至键合劈刀下方,精确定位后,完成第二点键合,最终形成跨越2个维度的三维线弧。
该种键合方法有以下缺点:
a) 跨越2个维度的三维线弧,弧度较高、键合线较长,难以满足高过载要求,需要封装尺寸较大;
b)上述工装要实现同轴旋转后移动定位,同时还应具有加热和温控功能(对于金丝球键合),制作复杂、成本高;
c)顶面、底面(一般为旋转轴垂直的两个面),与其它相邻面键合连线,由于翻转困难,较难实现。
二、焊接飞线互连法
跨维度连线也有采用焊接飞线方式实现,即通过镀银铜线或导线烙铁锡焊方式,形成跨越2个维度的三维飞线,实现电性能连接。
该种键合方法具有以下缺点:
a) 多采用烙铁焊接,焊接效率低;
b) 焊接需要较大焊接空间,需要封装尺寸较大;
c) 焊接需要额外助焊剂清洗,带来工艺复杂性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种芯片三维多面之间的键合互连方法,该方法能够实现不同维度面之间的键合互连,且不形成三维键合线弧或三维焊接线弧,提高键合质量。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种芯片三维多面之间的键合互连方法,包括:
a、通过成膜工艺,在三维多面电路基板的侧边制作基片侧连PAD;基片侧连PAD作为相邻电路基板相互键合的媒介;通过基片侧连PAD,使相邻电路基板间的三维键合转化为二维键合,利用平面键合工艺即实现相邻电路基板间的键合;
b、将引线柱的外圆面制作出平面,形成引线柱PAD,引线柱PAD与相对应的电路基板相平行,使引线柱与电路基板间的三维键合转化为二维键合,利用平面键合工艺即实现引线柱与相对应电路基板间的键合。
本发明的有益效果是,
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造