[发明专利]一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器在审
申请号: | 201910795579.8 | 申请日: | 2019-08-27 |
公开(公告)号: | CN110331960A | 公开(公告)日: | 2019-10-15 |
发明(设计)人: | 邓海波 | 申请(专利权)人: | 湖北燊昇智能科技有限公司 |
主分类号: | E21B37/00 | 分类号: | E21B37/00;E21B28/00 |
代理公司: | 黄石市三益专利商标事务所 42109 | 代理人: | 滕金叶 |
地址: | 435109 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蜂巢式 超声波发生器 流发生器 射流撞击 混相器 蜡垢 液流 处理器 管筒 射流 安全环保 间隔布置 节能降耗 晶体聚集 绿色生态 分散化 精细化 原生态 防垢 防蜡 降粘 井下 增效 油田 应用 生产 建设 | ||
1.一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器,具有管筒,管筒内自下而上依次间隔布置有一级蜂巢式超声波发生器,二级蜂巢式超声波发生器及三级蜂巢式超声波发生器,其特征在于:所述一级蜂巢式超声波发生器和二级蜂巢式超声波发生器之间装有一级涡漩流发生器和一级涡漩射流撞击流混相器,二级蜂巢式超声波发生器和三级蜂巢式超声波发生器之间装有二级涡漩流发生器和二级涡漩射流撞击流混相器;所述一级涡漩射流撞击流混相器、二级涡漩射流撞击流混相器结构相同,均具有圆柱形结构,圆柱形结构的下端面设计为凹球面结构,圆柱形结构内部,沿中轴线对称分布有至少三个射流孔,所述射流孔是进口为大端,出口为小端的锥形孔结构,且同一混相器内所有射流孔的中轴线聚焦于涡漩射流撞击流混相器的中轴线上,所述射流孔中轴线聚焦点距离其顶部蜂巢式超声波发生器底板保留50~60mm距离。
2.根据权利要求1所述的一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器,其特征在于:所述一级涡漩流发生器、二级涡漩流发生器结构相同,均具有圆形分布板,圆形分布板上沿径向均匀分布有若干条形分布孔,每个条形分布孔一侧均设有一块涡漩导向板,该涡漩导向板与圆形分布板的夹角为20~30°,同一分布板上涡漩导向板的漩流方向一致。
3.根据权利要求2所述的一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器,其特征在于:每一级涡漩流发生器距离其下部的蜂巢式超声波发生器顶端距离为30~40mm,距离其上部的涡漩射流撞击流混相器底端的距离为60~80mm。
4.根据权利要求2所述的一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器,其特征在于:所述一级涡漩流发生器、二级涡漩流发生器的圆形分布板上的条形分布孔为长方形孔或腰圆孔,每块圆形分布板上条形分布孔的个数为4~8个,所述涡漩导向板与圆形分布板的夹角为25°。
5.根据权利要求2所述的一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器,其特征在于:所述一级涡漩流发生器与二级涡漩流发生器上涡漩导向板的涡漩方向为同向布置或反向布置。
6.根据权利要求5所述的一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器,其特征在于:所述一级涡漩流发生器上涡漩导向板的涡漩方向与二级涡漩流发生器上涡漩导向板的涡漩方向为反向布置,一级涡旋流发生器上的涡漩导向板为顺时针布置,二级涡漩流发生器上的涡漩导向板为逆时针布置,或一级涡旋流发生器上的涡漩导向板为逆时针布置,二级涡漩流发生器上的涡漩导向板为顺时针布置。
7.根据权利要求1所述的一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器,其特征在于:所述一级涡漩射流撞击流混相器、二级涡漩射流撞击流混相器上射流孔的个数为3~6个,射流孔的大端直径与小端直径之比为2~4:1。
8.根据权利要求7所述的一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器,其特征在于:所述一级涡漩射流撞击流混相器、二级涡漩射流撞击流混相器上射流孔的个数为4个,射流孔的大端直径与小端直径之比为3:1。
9.根据权利要求1所述的一种涡漩射流蜂巢式蜡垢液流处理器,其特征在于:所述一级涡漩射流撞击流混相器、二级涡漩射流撞击流混相器圆柱形结构的上端面也设计为凹球面结构。
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