[发明专利]一种防静电铁氟龙薄膜的制备方法

说明书

本发明涉及高分子材料技术领域，具体涉及一种防静电铁氟龙薄膜的制备方法，通过原料选取、混料、模压成型、高温烧结、车削成膜和整形的步骤制备而成，本发明以聚四氟乙烯作为基材，加入炭黑作为抗静电剂，选用粒径、堆积密度、含水率适宜的原料，并优化组分配比，同时严格把控各步骤的制备条件，使得制备的铁氟龙薄膜产品质量均匀，稳定性好，具有耐高低温，耐高强度硬度、耐拉伸、低摩擦磨耗的良好性能，解决了铁氟龙膜超薄厚度和防静电性能难以兼具的问题，满足OLED屏的使用需求，迎合市场的需要。

技术领域

本发明涉及高分子材料技术领域，具体涉及一种防静电铁氟龙薄膜的制备方法。

背景技术

铁氟龙，别称聚四氟乙烯，简称为PTFE，聚四氟乙烯是由四氟乙烯单体经本体悬浮聚合而成的高分子化合物，它具有优良的化学稳定性、耐腐蚀性，密封性、高润滑不粘性、良好的抗老化能力、耐高低温等优异特性优点，并且其本身对人体没有毒性。

目前铁氟龙广泛应用于液晶行业，业内统称缓冲材，通常称作电子膜或铁氟龙膜，在液晶屏模组绑定过程中对铁氟龙膜的要求极其高，尤其是对薄膜的厚度及厚薄公差，耐高温变形率，外观清洁度都非常高。随着液晶面板技术的不断发展，超薄高清自发光的OLED屏已经逐渐代替传统的TFT-LCD屏，对生产所涉及的电子元器件和制造设备的精准度要求更加严格，通常需要厚度小于0.1mm的超薄薄膜，甚至需要做到0.01mm，且必须在无尘无静电的环境中进行，实际生产中设备对静电的敏感度非常高，产生静电将会影响设备的运行精度，甚至可能击穿电子元器件如IC、芯片等，导致产品不良甚至报废，影响正产生产，所以在整个生产过程中要求所用的主辅材料须具备防静电性能。

普通白色铁氟龙膜自身不防静电，表面电阻为1×10^11～12Ω，稍微摩擦就会产生非常强的静电，防静电的铁氟龙膜产品要求表面其电阻为1×10^6～9Ω，要达到防静的表面电阻必须对铁氟龙膜进行改性，通常在铁氟龙原材料中加入一些抗静电剂，使其达到防静电的目的，改变铁氟龙膜表面电阻值，保证在产线中不会出现由于摩擦或其他原因导致静电产生从而影响正产生产。

目前国内在铁氟龙薄膜防静电领域研究较少，市面上常见的是较厚的PTFE防静电板和棒条，这些都难以做成铁氟龙薄膜，此外，在铁氟龙薄膜制备的过程中如何保证原料混合均匀性也是一大问题，一旦原料混合不均匀，铁氟龙薄膜制品将会出现色差、白点、白斑、甚至掉粉的现象，严重影响正常使用。基于此，开发一种铁氟龙薄膜的制备方法，使得铁氟龙薄膜制品的厚度小于0.1mm，同时具备防静电性能，且质量均一，稳定性好，使其满足超薄高清自发光的OLED屏的应用需求至关重要。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的上述缺陷，提供一种防静电铁氟龙薄膜的制备方法，解决铁氟龙薄膜厚度和抗静电性能难以兼顾的难题，使其制备的铁氟龙薄膜质量均一、稳定性好，厚度达到小于0.1mm兼具优异的抗静电性能，使其适用于OLED屏的应用。

为解决上述问题，本发明提供一种防静电铁氟龙薄膜的制备方法，包括以下步骤：

步骤1：原料选取，选用聚四氟乙烯作为基材，加入炭黑作为抗静电剂，按重量百分比计，所述聚四氟乙烯的组分含量为94%～97%，所述炭黑的组分含量为3%～6%；其中，所述聚四氟乙烯的平均粒径为22.5～27.5μm，堆积密度为300～500g/L，含水率≤0.04%；所述炭黑的表面积为750～1000，平均粒径为25～50nm，堆积密度为130g/L，含水率≤0.05%；

步骤2：混料，将步骤1中选取的原料经循环多次的连续混合使其充分均匀，可以有效避免传统单次混合过程中产生粉尘和发热结团导致混合不均匀的问题；

步骤3：模压成型制得铁氟龙坯体，压制速度控制在10～30mm/min，排气次数15～25次，以预定压力保压时间为10～50min；其中，预定压力F＝制品截面积S/油缸活塞面积s×单位压力P，P＝250～300kgf；