[发明专利]微带贴片天线制造公差对电性能影响的区间分析方法有效
申请号: | 201910800284.5 | 申请日: | 2019-08-28 |
公开(公告)号: | CN110488094B | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | 李鹏;王超;任泽敏;黄进;许万业;宋立伟;胡乃岗;周金柱;王从思 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G01R27/26 | 分类号: | G01R27/26;G01R29/10;G01R29/08 |
代理公司: | 北京世誉鑫诚专利代理有限公司 11368 | 代理人: | 刘秀珍 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微带 天线 制造 公差 性能 影响 区间 分析 方法 | ||
1.微带贴片天线制造公差对电性能影响的区间分析方法,其特征在于,所述电性能至少包括谐振频率区间,至少包括以下步骤:
S1,确认制造参数的区间,其中,制造参数为微带贴片天线的长度、微带贴片天线的宽度、微带贴片天线的厚度或者微带贴片天线的介电常数;
S2,参考下列公式计算介质基片的有效介电常数或者有效介电常数区间,将涉及的参数替换为相应的参数的区间:
S3,按照下面公式计算辐射缝隙的长度或长度区间,将涉及的参数替换为相应的参数的区间:
S4,按照下面公式计算谐振频率区间,将涉及的参数替换为相应的参数的区间:
式中,c表示光速,且c=299792458m/s,f表示工作频率,εr表示介质基片的相对介电常数,εe表示有效介电常数,h代表介质基片的厚度,W代表微带贴片天线贴片的宽度,Δl表示辐射缝隙的长度,L代表微带贴片天线贴片的长度。
2.根据权利要求1所述的微带贴片天线制造公差对电性能影响的区间分析方法,其特征在于,所述电性能还包括远场方向图,当制造参数为微带贴片天线的长度、微带贴片天线的宽度或者微带贴片天线的厚度时,在步骤S4之后,还包括:
S5,计算微带贴片天线的E面辐射方向性或者H面辐射方向性,具体的,
当制造参数为微带贴片天线的长度,按照下面公式,计算微带贴片天线的E面辐射方向性
当制造参数为微带贴片天线的宽度,按照下面公式,计算微带贴片天线的H面辐射方向性
当制造参数为微带贴片天线的厚度,按照下面公式,计算微带贴片天线的E面辐射方向性
式中,φ为yoz对应的夹角,θ为xoz面对应的夹角,k0为波数且k0=2π/λ,意为2π长度上出现的全波数目,角标inf和sup分别表示区间的下边界和上边界,Linf/sup代表微带贴片天线贴片的长度区间值,Winf/sup代表微带贴片天线贴片的宽度区间,hinf/sup表示介质基片的厚度区间。
3.根据权利要求2所述的微带贴片天线制造公差对电性能影响的区间分析方法,其特征在于,所述电性能还包括波瓣宽度,在步骤S5之后,还包括:
S6,计算E面波瓣宽度或者H面波瓣宽度,具体的,
当制造参数为微带贴片天线的长度,按照下面公式,计算微带贴片天线的E面波瓣宽度
当制造参数为微带贴片天线的宽度,按照下面公式,计算微带贴片天线的H面波瓣宽度
当制造参数为微带贴片天线的厚度,按照下面公式,计算微带贴片天线的E面波瓣宽度
式中,为E面方向图的半功率波瓣宽度,为H面方向图的半功率波瓣宽度区间。
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