[发明专利]一种PH传感器及其制备方法有效
申请号: | 201910803782.5 | 申请日: | 2019-08-28 |
公开(公告)号: | CN110514652B | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
发明(设计)人: | 倪柳松;胡迎宾;宋威;刘冲冲;王明;赵策;闫梁臣 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/76 | 分类号: | G01N21/76;H01L27/144 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李欣 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ph 传感器 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及检测设备技术领域,公开了一种PH传感器及其制备方法,该PH传感器包括:衬底基板,依次形成于衬底基板一侧的有机磷光材料层、遮光金属层、缓冲层、薄膜晶体管器件层、钝化层、平坦层、阳极、发光层、阴极和封装层,其中,与有机磷光材料层相对的部位的薄膜晶体管器件层为光敏薄膜晶体管器件层,衬底基板与光敏薄膜晶体管器件层相对的部位形成有多个气体进入通道;衬底基板背离有机磷光材料层的一侧设置有用于激发有机磷光材料层的光源。该PH传感器实现了对环境空气的PH值的可视化检测,且该PH传感器检测方便,操作简单。
技术领域
本发明涉及检测设备技术领域,特别涉及一种PH传感器及其制备方法。
背景技术
目前在显示行业,高世代生产线越来越多,随之产线设备也越来越大,典型的为占地面积大的湿刻设备,湿刻设备中的酸碱刻蚀液含有酸碱成分,酸碱刻蚀液挥发后会污染生产线内的空气,且设备体积越大,酸碱刻蚀液越容易挥发,挥发后在空气中后会对相关工作人员的身体健康造成损害,生产线内空气长时间的酸碱超标容易造成生产线内设备的腐蚀,降低设备的使用寿命,且生产线内空气酸碱超标容易造成产线显示设备中膜层的污染,同时容易造成静电,目前检测PH的主要有PH试纸、PH检测仪等,现有的检测手段存在操作复杂、检测受限、同步性差等缺点,无法满足生产线PH实时监控的需求。
发明内容
本发明提供了一种PH传感器及其制备方法,上述PH传感器实现了对环境空气的PH值的可视化检测,且该PH传感器检测方便,操作简单。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种PH传感器,包括:
衬底基板;
形成于所述衬底基板一侧的有机磷光材料层和遮光金属层;
形成于所述遮光金属层和所述有机磷光材料层背离所述衬底基板一侧的缓冲层;
形成于所述缓冲层背离所述衬底基板一侧的薄膜晶体管器件层,其中,与所述有机磷光材料层相对的部位的薄膜晶体管器件层为光敏薄膜晶体管器件层,所述衬底基板与所述光敏薄膜晶体管器件层相对的部位形成有多个气体进入通道;
依次形成于所述薄膜晶体管器件层背离衬底基板一侧的钝化层、平坦层、阳极、发光层、阴极和封装层;
设置于所述衬底基板背离所述有机磷光材料层和遮光金属层一侧、用于激发所述有机磷光材料层的光源。
上述PH传感器中包括:衬底基板、依次形成于衬底基板一侧的有机磷光材料层、遮光金属层、缓冲层、薄膜晶体管器件层、钝化层、平坦层、阳极、发光层、阴极和封装层,其中,衬底基板与有机磷光材料层相对的部位的薄膜晶体管器件层为光敏薄膜晶体管器件层,衬底基板与光敏薄膜晶体管器件层相对的部位形成有多个气体进入通道;衬底基板背离有机磷光材料层和遮光金属层的一侧设置有用于激发有机磷光材料层的光源,在本发明中利用有机磷光材料层具有吸附H+或者OH-的特点,并在有机磷光材料层吸附H+或者OH-后用光源照射该有机磷光材料层以激发有机磷光材料层,使有机磷光材料层的发射光谱发生一定规律的变化,并通过光敏薄膜晶体管和发光层进行实现对当前环境空气PH值的可视化检测。在PH传感器的工作过程中,空气通过气体进入通道进入PH传感器并与有机磷光材料层相接触,有机磷光材料层吸附环境空气中的H+或者OH-,通过光源照射有机磷光材料层以激发有机磷光材料层,使得有机磷光材料层发射光谱的改变,从而导致光敏薄膜晶体管的半导体材料的载流子发生变化,当有机磷光材料层发射光谱的波长较短时,光敏薄膜晶体管在短波长的光刺激下,载流子增加,工作电压不变的情况下工作电流增大,从而PH传感器的显示更亮;当有机磷光材料层发射光谱的波长较长时,光敏薄膜晶体管在长波长的光刺激下,载流子减少,工作电压不变的情况下工作电流减小,从而PH传感器的显示更暗;从而可以通过观察PH传感器发出的光的强度实现对当前环境空气PH值的可视化检测。本发明提供的PH传感器实现了对环境空气的PH值的可视化检测,且该PH传感器检测方便,操作简单。
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