[发明专利]一种采用像素内参数调整技术的大动态范围像素结构有效

专利信息
申请号: 201910805424.8 申请日: 2019-08-29
公开(公告)号: CN112449133B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 徐江涛;徐亮;赵彤;聂凯明;高静 申请(专利权)人: 天津大学青岛海洋技术研究院
主分类号: H04N25/76 分类号: H04N25/76;H04N25/57;H01L27/146
代理公司: 青岛致嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 37236 代理人: 张晓艳
地址: 266200 山东省青岛市鳌*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 采用 像素 参数 调整 技术 动态 范围 结构
【权利要求书】:

1.一种采用像素内参数调整技术的大动态范围像素结构,其特征在于:通过浅沟槽隔离栅(101)进行不同像素间的隔离,自钳位光电二极管(102)通过传输门(103)与浮动扩散区(104)连接,浮动扩散区另一端连接复位管(105)和源跟随器(106),源跟随器通过参数放大开关(107)连接行选管(108);不同的偏置电压源V1(111)和V2(112)与参数放大开关另一端连接,源跟随器与偏置电压源V1和V2之间的开关分别为K1(109)、K2(110);传输门、复位管、源跟随器、行选管、参数放大开关、开关K1、K2均使用NMOS晶体管实现;传输门由传输信号TG控制,复位管由复位信号RST控制,参数放大开关由SPA信号控制,行选管由行选信号SEL控制,电源选择开关K1、K2由S1、S2信号控制;

自钳位光电二极管由表面嵌位层P+区、N-埋层及P型衬底构成,外界光信号入射到像素表面后被自钳位光电二极管吸收,发生本征吸收,产生光生电子-空穴对,光生电子在势垒区电场作用下吸引至N埋层中;传输门控制自钳位光电二极管的光生电子向浮动扩散区的转移,传输门的栅上加高压时开启,低压时关闭;浮动扩散区为重掺杂N+区,传输门开启后光生电子进入浮动扩散区,浮动扩散区与源跟随器的栅极相连接,参数放大开关被用来短接源跟随器的源极和漏极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学青岛海洋技术研究院,未经天津大学青岛海洋技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910805424.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top