[发明专利]一种采用像素内参数调整技术的大动态范围像素结构有效
申请号: | 201910805424.8 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN112449133B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 徐江涛;徐亮;赵彤;聂凯明;高静 | 申请(专利权)人: | 天津大学青岛海洋技术研究院 |
主分类号: | H04N25/76 | 分类号: | H04N25/76;H04N25/57;H01L27/146 |
代理公司: | 青岛致嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 37236 | 代理人: | 张晓艳 |
地址: | 266200 山东省青岛市鳌*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 采用 像素 参数 调整 技术 动态 范围 结构 | ||
1.一种采用像素内参数调整技术的大动态范围像素结构,其特征在于:通过浅沟槽隔离栅(101)进行不同像素间的隔离,自钳位光电二极管(102)通过传输门(103)与浮动扩散区(104)连接,浮动扩散区另一端连接复位管(105)和源跟随器(106),源跟随器通过参数放大开关(107)连接行选管(108);不同的偏置电压源V1(111)和V2(112)与参数放大开关另一端连接,源跟随器与偏置电压源V1和V2之间的开关分别为K1(109)、K2(110);传输门、复位管、源跟随器、行选管、参数放大开关、开关K1、K2均使用NMOS晶体管实现;传输门由传输信号TG控制,复位管由复位信号RST控制,参数放大开关由SPA信号控制,行选管由行选信号SEL控制,电源选择开关K1、K2由S1、S2信号控制;
自钳位光电二极管由表面嵌位层P+区、N-埋层及P型衬底构成,外界光信号入射到像素表面后被自钳位光电二极管吸收,发生本征吸收,产生光生电子-空穴对,光生电子在势垒区电场作用下吸引至N埋层中;传输门控制自钳位光电二极管的光生电子向浮动扩散区的转移,传输门的栅上加高压时开启,低压时关闭;浮动扩散区为重掺杂N+区,传输门开启后光生电子进入浮动扩散区,浮动扩散区与源跟随器的栅极相连接,参数放大开关被用来短接源跟随器的源极和漏极。
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