[发明专利]一种炫彩光学膜及其制备方法和应用结构

权利要求书

1.一种炫彩光学膜，其特征在于，包括：

基材；

设置于所述基材表面的涂层组，所述涂层组包括N层第一涂层和M层第二涂层，所述第一涂层和第二涂层交替设置；M和N均为大于或等于1的整数；

所述第一涂层为有机无机杂化涂层，所述第二涂层为有机涂层，所述第一涂层的折射率大于所述第二涂层的折射率。

2.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述第一涂层为由预设无机材料的纳米颗粒分散到高分子树脂中形成的有机无机杂化涂层。

3.根据权利要求2所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述预设无机材料为成膜后折射率大于1.5的无机化合物。

4.根据权利要求2所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述有机无机杂化涂层为通过溶胶-凝胶工艺、插层复合工艺、纳米微粒直接分散工艺、纳米微粒原位生成工艺、前驱体工艺制备的涂层。

5.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述第一涂层的厚度的取值范围为0.01-1μm。

6.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述第二涂层为有机高分子涂层。

7.根据权利要求6所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述第二涂层为经过多孔处理的有机涂层；

经过多孔处理的有机涂层中具有通孔和/或凹槽和/或发泡结构，且经过多孔处理的有机涂层的折射率小于或等于1.3。

8.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述第一涂层和/或第二涂层中还掺杂有彩色染料、变色染料或其他功能性染料。

9.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述基材、第一涂层和/或第二涂层为经过纳米压印处理的涂层。

10.根据权利要求9所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述纳米压印处理的涂层为通过UV纹理压印、模压或镭射方式实现的纳米压印涂层。

11.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，还包括：

设置于所述涂层组背离所述基材一侧表面的油墨层。

12.一种炫彩光学膜的制备方法，其特征在于，包括：

基材；

在所述基材表面形成涂层组，所述涂层组包括N层第一涂层和M层第二涂层，所述第一涂层和第二涂层交替设置；M和N均为大于或等于1的整数；

所述第一涂层为有机无机杂化涂层，所述第二涂层为有机涂层，所述第一涂层的折射率大于所述第二涂层的折射率。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述第一涂层的制备方法包括：获取预设无机材料的纳米颗粒；

将所述预设无机材料的纳米颗粒分散到高分子树脂中形成有机无机杂化材料；

利用所述有机无机杂化材料，采用湿法涂布工艺等“卷到卷”生产工艺制备所述第一涂层。

14.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述第二涂层的制备方法包括：

采用湿法涂布工艺或真空镀膜工艺等“卷到卷”生产工艺制备所述第二涂层；

经过如模板技术、纳米刻蚀技术、纳米印迹技术、溶剂挥发诱导技术或自组装技术多孔处理工艺制备所述第二涂层。

15.一种炫彩光学膜的应用结构，其特征在于，包括：

待贴附结构；

作为所述待贴附结构的装饰层和/或功能层的至少一层如权利要求1-11任一项所述的炫彩光学膜。