[发明专利]透镜装置和包括透镜装置的成像系统

说明书

本公开涉及透镜装置和包括透镜装置的成像系统。一种透镜装置，包括：成像光学系统，包括多个透镜；第一保持构件，至少保持所述多个透镜中的最靠近物体的第一透镜，并且被配置为在成像光学系统的光轴方向上移动以执行聚焦；筒构件，设置在第一保持构件的外侧；以及控制单元，被配置为控制驱动单元，该驱动单元被配置为使第一保持构件移动。当聚焦于无穷远处时，筒构件的物侧的边缘表面定位在第一透镜的物侧表面的表面顶点的物侧。当聚焦于无穷远处时，控制单元的物侧的边缘表面定位在该表面顶点的物侧。

技术领域

本发明涉及透镜装置和包括透镜装置的成像系统。

背景技术

日本专利申请特许公开No.2013-218015中描述的透镜装置被称为可更换透镜(透镜装置)，其通过在光轴方向移动的多个透镜执行聚焦。多个透镜包括最靠近物体设置的透镜(物侧、放大共轭侧)。在日本专利申请特许公开No.2013-218015中讨论的可更换透镜从物侧起依次包括具有正折光力的第一透镜单元和具有正折光力或负折光力的第二透镜单元，并且第一透镜单元在聚焦时在光轴方向移动。此外，第一透镜单元从物侧起依次包括具有正折光力的第一透镜子单元、光阑和具有正折光力的第二透镜子单元。

假设从物侧向日本专利申请特许公开No.2013-218015中讨论的可更换透镜添加光轴方向上的冲击力。在这种情况下，如果用于保持最靠近物体设置的透镜的前透镜保持框架比设置在前透镜保持框架的外侧的外筒构件朝着物体突出得更远，则冲击力直接作用于前透镜保持框架，这是不期望的。如果冲击力直接作用于前透镜保持框架，则设置在前透镜保持框架内的透镜的形状和位置可能改变。因此，至少当焦点处于无穷远时，期望外筒构件比前透镜保持框架朝着物体突出得更远。

此外，如果如在日本专利申请特许公开No.2013-218015中讨论的可更换透镜中那样，最靠近物体设置的透镜在光轴方向上移动，则当焦点处于近距离时最靠近物体设置的透镜定位在透镜的可移动范围内的最靠近物体的位置。此外，当焦点处于无穷远时最靠近物体设置的透镜定位在透镜的可移动范围内的最靠近像侧的位置。

众所周知，可更换透镜具有包括用于在聚焦时使透镜在光轴方向上移动的致动器(诸如超声马达(USM))以及用于控制致动器的控制板的配置，其没有在日本专利申请特许公开No.2013-218015中清楚地讨论。当具有这种配置的可更换透镜附接到包括图像传感器的相机主体时，如果控制板和图像传感器彼此太靠近，则由控制板产生的磁噪声可到达图像传感器并且捕获的图像的图像质量会降级。

日本专利申请特许公开No.2013-218015没有讨论可以减小上述在光轴方向上施加的冲击力的影响和上述磁噪声的影响的可更换透镜的配置。

发明内容

鉴于上述情况，本发明针对一种可以减小在光轴方向上施加的冲击力的影响和磁噪声的影响的透镜装置，以及包括该透镜装置的成像系统。

根据本发明的一个方面，一种透镜装置包括：成像光学系统，包括多个透镜；第一保持构件，至少保持所述多个透镜中的最靠近物体的第一透镜，并且被配置为在成像光学系统的光轴方向上移动以执行聚焦；筒构件，设置在第一保持构件的外侧；以及控制单元，被配置为控制驱动单元，该驱动单元被配置为使第一保持构件移动。当焦点处于无穷远处时，筒构件的物侧的边缘表面定位在第一透镜的物侧表面的表面顶点的物侧。当焦点处于无穷远处时，控制单元的物侧的边缘表面定位在该表面顶点的物侧。

参考附图，根据示例性实施例的以下描述，本发明的其它特征将变得清楚。

附图说明

图1是图示根据第一示例性实施例的处于无穷远聚焦状态的镜筒和相机的示意图。

图2是图示根据第一示例性实施例的处于近距离聚焦状态的镜筒和相机的示意图。

图3是图示根据第一示例性实施例的电路基板的周边的结构的分解透视图。