[发明专利]SOI键合片键合力的检测方法在审
申请号: | 201910811853.6 | 申请日: | 2019-08-30 |
公开(公告)号: | CN110530567A | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 朱建;黄健;陈斯琦;唐可;王林军 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | G01L5/24 | 分类号: | G01L5/24;G01N29/06 |
代理公司: | 31205 上海上大专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 顾勇华<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测试过程 键合片 超声波扫描 键合力 显微镜 直观 测量裂纹 检测结果 缺陷分布 分析 测试片 检测 刀片 键合 制备 损伤 图像 图片 | ||
1.一种SOI键合片键合力的检测方法,其特征在于,通过检测插入SOI键合片的键合界面的刀片所造成的键合片裂纹长度,进而计算得到待测SOI预键合片的键合力,包括如下步骤:
a.待测SOI键合片的准备:
选择平面最大尺寸为6寸或8寸的SOI键合片作为待测样品,其中两个键合片的厚度为650-700微米,作为待测SOI键合片;
b.超声波扫描显微镜的准备:
在样品槽中加入去离子水,确保从样品槽中去离子水的液面高度不低于5厘米,在确保样品槽中没有样品的情况下,打开电脑端的WINSAM操作软件进行软件的初始化,在软件的初始化过程中,超声波扫描显微镜的扫描机构按照扫描范围的最大范围扫描一遍,最后停留在样品槽中间,完成超声波扫描显微镜的准备程序;
c.刀片插入过程:
在所述步骤a中准备的待测预键合SOI片边缘有明显缝隙,刀具刃口厚度比待测预键合SOI片边缘缝隙宽度更薄,且刀具厚度不超过60微米,且刀具厚度误差为±1微米;在洁净平整操作台面上平置待测SOI预键合片,将刀具刃口对准待测SOI预键合片键合面缝隙,以均匀速度插入刀具,刀具插入长度不超过1.5毫米;
d.SOI键合片键合力的测试过程:
将在所述步骤c中插入刀具的预键合SOI片放入在所述步骤b中转备好的超声波扫描显微镜的样品槽中,以均匀速度置入水中,与样品槽6寸或8寸置物台轮廓对齐;然后设置扫描范围150-250毫米,校准波形,使上表面峰在6000~6200纳秒位置,选择上表面峰为标准峰,选取上表面峰与下表面峰之间为信号采集区域,用C-Scan模式进行扫描,得到待测SOI预键合片的待测图像,从而得到刀片插入长度以及键合片裂纹长度,在通过计算得到待测SOI预键合片的键合力。
2.根据权利要求1所述SOI键合片键合力的检测方法,其特征在于:在所述步骤a中,采用BESOI制备工艺方法,制备待测预键合SOI片,首先对平面最大尺寸为6寸或8寸的device片进行氧注入,并进行退火,选择厚度为650-700微米的device片,在device片表面形成厚度为420-450纳米的氧化层,氧化注入层形成厚度90-110纳米的氧化层,两氧化层间的硅厚度为180-210纳米,其配对键合的最大尺寸为6寸或8寸的handle片厚度为650-700微米,对其进行表面氧化形成50-80纳米的氧化层;然后将device片和handle片在键合机中进行常温键合,得到待测SOI键合片。
3.根据权利要求1所述SOI键合片键合力的检测方法,其特征在于:在所述步骤a中,采用厚度为663-675微米的两个键合片制成的平面最大尺寸为6寸或8寸的SOI键合片,作为待测SOI键合片样品。
4.根据权利要求2所述SOI键合片键合力的检测方法,其特征在于:在所述步骤a中,所述SOI键合片为BESOI方法采用注入氧化退火工艺方法,键合面为二氧化硅和二氧化硅键合。
5.根据权利要求1所述SOI键合片键合力的检测方法,其特征在于:在所述步骤b中,样品槽中去离子水的液面高度大于5厘米。
6.根据权利要求1所述SOI键合片键合力的检测方法,其特征在于:在所述步骤c中,将刀具刃口对准待测SOI预键合片键合面缝隙,以均匀速度插入刀具,刀具插入长度为1.2-1.5毫米。
7.根据权利要求1所述SOI键合片键合力的检测方法,其特征在于:在所述步骤c中,刀具厚度为50-60微米,且刀具厚度误差为±1微米。
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