[发明专利]一种曝光方法及系统在审
申请号: | 201910814015.4 | 申请日: | 2019-08-30 |
公开(公告)号: | CN112446249A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 刘若鹏;栾琳;季春霖;李永舟 | 申请(专利权)人: | 深圳光启空间技术有限公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00;H04N5/235 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518057 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 曝光 方法 系统 | ||
1.一种曝光方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:获得图像,所述图像包括多个目标元素;
S2:分析所述目标元素亮度值:
S3:获得的图像中目标元素亮度分布特性;
S4:对所述目标元素进行曝光调整。
2.根据权利要求1所述的曝光方法,其特征在于,所述目标元素为待识别面部。
3.根据权利要求2所述的曝光方法,其特征在于,所述步骤S2还包括:将所述图像转换为灰度图,所述目标元素亮度值等于所述目标元素的灰度值。
4.根据权利要求3所述的曝光方法,其特征在于,所述目标元素的亮度为:
其中Yn为第n个目标元素的亮度,M×N为人脸区域的大小,D、F、B分别为人脸暗部、中间部和亮度,a,b,c分别为权重参数,n为自然数。
5.根据权利要求4所述的曝光方法,其特征在于,所述M×N在20×20至800×800像素之间。
6.根据权利要求4所述的曝光方法,其特征在于,所述步骤S4包括:
设定曝光调整值Yface_total,其中:
其中Wn为第n个人脸对应的像素面积占所有人脸的总像素面积的百分比;
当第n个人的人脸亮度与所述Yface_total的差值大于调整阈值时,将第n个人的人脸亮度调整为Yface_total。
7.根据权利要求4所述的曝光方法,其特征在于,DA1,A1FA2,BA2;其中,A1,A2为灰度0-255的值,所述A1为25~45,A2为135~175。
8.根据权利要求7所述的曝光方法,其特征在于,所述A1=30,所述A2=150。
9.根据权利要求4所述的曝光方法,其特征在于,所述或
10.一种存储介质,其特征在于,所述存储介质中存储有计算机程序,其中,所述计算机程序被设置为运行时执行所述权利要求1至9任一项中所述的曝光方法。
11.一种曝光系统,其特征在于,包括存储器和处理器,其特征在于,所述存储器中存储有计算机程序,所述处理器被设置为运行所述计算机程序以执行所述权利要求1至9任一项中所述的曝光方法。
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