[发明专利]显示装置和用于制造该显示装置的方法在审
申请号: | 201910814474.2 | 申请日: | 2019-08-30 |
公开(公告)号: | CN110875367A | 公开(公告)日: | 2020-03-10 |
发明(设计)人: | 朴镇镐 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;谭天 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 用于 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,包括:
基板,其具有有源区域和围绕所述有源区域的外围区域;
相机孔,其设置在所述基板的所述有源区域中;
多个子像素,其设置在所述有源区域中同时相对于所述相机孔间隔开第一距离,所述多个子像素分别包括多个发光层;以及
至少一个有机公共层,其设置在所述多个发光层上或所述多个发光层之下,
其中所述至少一个有机公共层包括与距所述相机孔的第二距离相对应的间断部,所述第二距离小于或等于所述第一距离。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述间断部是所述至少一个有机公共层中的孔,或者
其中所述间断部是所述至少一个有机公共层中的空白处,所述空白处没有所述至少一个有机公共层。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其中除在对应于所述间断部和所述相机孔的区域之外,所述至少一个有机公共层在所述有源区域中具有一体化的结构。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述至少一个有机公共层包括设置在所述多个发光层之下的第一有机公共层,和设置在所述多个发光层上的第二有机公共层,
其中所述第一有机公共层接触所述多个子像素中的每个子像素中的第一电极,以及
其中所述第二有机公共层接触所述多个子像素中的每个子像素中的第二电极。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其中所述第二电极具有直径等于所述第二有机公共层的间断部的直径的间断部。
6.根据权利要求4所述的显示装置,其中所述第二有机公共层交叠所述外围区域中的所述第一有机公共层,以及
其中所述第二电极交叠所述外围区域中的所述第二有机公共层。
7.根据权利要求4所述的显示装置,还包括:
设置在所述基板上的缓冲层,所述缓冲层在距所述相机孔所述第二距离内的区域内具有防裂图案;以及
设置在所述基板上的阻挡层,所述阻挡层交叠包括所述多个子像素的所述有源区域和所述外围区域,
其中所述防裂图案的凹槽填充有所述阻挡层。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其中所述防裂图案包括布置在所述缓冲层中的一个或更多个凹槽,所述一个或更多个凹槽具有之字形形状、波状形状或弯曲形状。
9.根据权利要求7所述的显示装置,其中所述缓冲层包括:
多个无机堆叠体,其设置成邻近所述基板;以及
有源缓冲层,其设置在所述多个无机堆叠体上,所述有源缓冲层设置在半导体层上方或下方,所述半导体层设置在所述有源区域中。
10.根据权利要求1所述的显示装置,其中围绕所述相机孔的区域不存在所述至少一个有机公共层,以及
其中所述至少一个有机公共层的边缘相对于所述相机孔的边缘间隔开所述第二距离。
11.根据权利要求1所述的显示装置,还包括:
坝图案,其设置在距所述相机孔所述第二距离的区域内,所述坝图案相对于所述相机孔和所述至少一个有机公共层间隔开。
12.根据权利要求11所述的显示装置,其中所述多个子像素分别通过堤部彼此分开,所述坝图案包括与所述堤部相同的材料。
13.根据权利要求1所述的显示装置,还包括:
设置在所述基板上的缓冲层,
在所述基板上方的阻挡层,所述阻挡层交叠包括所述多个子像素的所述有源区域和所述外围区域,
其中所述阻挡层在距所述相机孔所述第二距离的区域内接触所述缓冲层。
14.根据权利要求13所述的显示装置,其中所述阻挡层包括至少一个有机层和至少一个无机层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的