[发明专利]一种基板的制备方法

权利要求书

1.一种基板的制备方法，其特征在于，包括：

提供待处理中间结构，所述待处理中间结构包括具有第一热膨胀系数的第一膜层、以及具有第二热膨胀系数的第二膜层，所述第一热膨胀系数不等于所述第二热膨胀系数；

获取对样本中间结构进行加热处理以及冷却处理所产生的自然形变，其中，所述样本中间结构与所述待处理中间结构相同；

对所述待处理中间结构施加预设应力以产生预设形变，其中，所述预设形变的形变量与所述自然形变的形变量之差小于预设阈值，所述预设形变的形变方向与所述自然形变的形变方向相反；

对具有所述预设形变的所述待处理中间结构进行所述加热处理以及所述冷却处理；

所述对具有所述预设形变的所述待处理中间结构进行所述加热处理以及所述冷却处理之后，还包括：

撤销施加在所述待处理中间结构上的所述预设应力。

2.根据权利要求1所述的基板的制备方法，其特征在于，若所述第一热膨胀系数小于所述第二热膨胀系数，所述预设形变的形变方向为中间位置自所述第一膜层指向所述第二膜层的方向；

若所述第一热膨胀系数大于所述第二热膨胀系数，所述预设形变的形变方向为中间位置自所述第二膜层指向所述第一膜层的方向。

3.根据权利要求1所述的基板的制备方法，其特征在于，所述对所述待处理中间结构施加预设应力以产生预设形变，具体为：

对所述待处理中间结构的相对两侧施加应力以使所述待处理中间结构产生所述预设形变。

4.根据权利要求1所述的基板的制备方法，其特征在于，所述对所述待处理中间结构施加预设应力以产生预设形变，具体为：

调整用于承载所述待处理中间结构的承载力以使所述待处理中间结构产生所述预设形变。

5.根据权利要求4所述的基板的制备方法，其特征在于，调整用于承载所述待处理中间结构的承载力以使所述待处理中间结构产生所述预设形变，具体为：

将用于承载所述待处理中间结构的承载台调整为预设形状。

6.根据权利要求4所述的基板的制备方法，其特征在于，调整用于承载所述待处理中间结构的承载力以使所述待处理中间结构产生所述预设形变，具体为：

将用于顶持所述待处理中间结构的顶针调整为预设高度。

7.根据权利要求1所述的基板的制备方法，其特征在于，所述第一膜层为刚性基板，所述第二膜层为柔性膜层；

所述对具有所述预设形变的所述待处理中间结构进行所述加热处理，具体为：

对具有所述预设形变的所述柔性膜层进行高温固化。

8.根据权利要求7所述的基板的制备方法，其特征在于，所述对所述待处理中间结构施加预设应力以产生预设形变之前，还包括：

对所述柔性膜层进行预固化处理。

9.根据权利要求8所述的基板的制备方法，其特征在于，所述对所述柔性膜层进行预固化处理，具体为：对所述柔性膜层进行热真空干燥。

10.根据权利要求7所述的基板的制备方法，其特征在于，所述柔性膜层为柔性衬底。

11.根据权利要求10所述的基板的制备方法，其特征在于，所述柔性衬底为透明聚酰亚胺薄膜。