[发明专利]一种无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准方法有效

专利信息
申请号: 201910815576.6 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN110632826B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 董帅;谢传明 申请(专利权)人: 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/22
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 苗娟
地址: 230088 安徽省合肥市高新区*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 无掩模 激光 光刻 设备 生产 对准 方法
【权利要求书】:

1.一种无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准方法,基于卷对卷无掩模激光直写光刻设备,其特征在于,包括以下步骤:

在片对卷的生产模式下,自动搜索对位靶标后开始对准;

使用上一片的对准结果,计算出累计进板误差,自动修正下一片的对位参数后再执行曝光过程;

所述步骤具体包括:

S100、基于片对卷生产模式,每片基板上设置四个对位靶标,对位靶标和曝光图形资料已经提前录入到设备的料号数据库中,每个对位靶标的坐标与曝光图形在同一坐标系中;

S200、搜索靶点,卷对卷无掩模激光直写光刻设备根据数据库中所保存的靶点信息,用对准相机依次搜索靶点的位置,如果是第一次曝光,则记n等于1,转到步骤S300,否者执行步骤S400进行自动搜索;

S300、使用对准相机沿Y方向在设定范围内搜索第一个对位靶标,搜索到第一个对位靶标后,根据四个对位靶标之间的相对位置关系计算出另外三个靶标的估算位置,然后再将对准相机移动到相应估算位置上抓取另外三个对位靶标的精确位置;

最终得到B1n(X1,Y1)、B2n(X2,Y2)和B3n(X3,Y3)、An(X,Y)四个相对于吸盘坐标系的精确靶点;

S400、根据上一次对准时修改的参数,相机从坐标(PanelLeft,PanelBottom)处沿Y方向直接移动至左上角靶标上提取坐标值,最终依次得到B1n(X1,Y1)、B2n(X2,Y2)和B3n(X3,Y3)、An(X,Y)四个精确的坐标值;

S500、自动修改参数,记录左下角的靶标An(X,Y),记左边距为PanelLeft,底边距为PanelBottom,令PanelLeft=X;PanelBottom=Y;

S600、开始对准,根据自动搜索出来的各个靶标,将曝光图形定位于曝光片上;

S700、通过曝光部件执行曝光过程,将图形曝光至靶标所定位的曝光片上;

S800、曝光完成后判断此时底边距PanelBottom是否超出一片板子本身的高度,如果未超出则曝光台面收片Hn,进片Ln,此时产生的进片误差sn和间隔误差pn会在下次曝光进行修正,如果已经超出,将不再进板,继续执行下一步S900;其中,收片Hn:是指上一次曝光完成后,收卷机可收进的长度Hn;进片Ln:是指上一次曝光完成后,放卷机可放卷的长度Ln;

S900、判定n是否为最后一片,若是最后一片则曝光结束,否则记n=n+1,重复执行S200至S800,直至用完整卷曝光板材或其他原因终止曝光。

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