[发明专利]一种直写式光刻机曝光方法

权利要求书

1.一种直写式光刻机曝光方法，其特征在于，包括：

在曝光前，设定曝光模式为N排M列DMD曝光模式，其中M、N均为自然数且M＞0，N＞1；

对每个DMD的中心位置进行标定，得到每个DMD相对于坐标原点的位置信息；

根据每个DMD的位置信息，确定每个DMD对应的曝光区域，其中任意一排DMD曝光图形的总宽度为直写光刻版图的宽度，任意一列DMD曝光图形的总高度为直写光刻版图的高度；

利用各DMD进行曝光处理，并输出对应的光刻版图曝光图形；

将每个DMD与直写式精密平台进行匹配，将光刻版图呈现在曝光的基底上；

其中，所述根据每个DMD的位置信息，确定每个DMD对应的曝光区域，包括：

根据第一排DMD的位置信息，在所述光刻版图中对第一排中DMD对应的曝光区域进行划分；

根据所述第一排DMD的位置信息，在所述光刻版图中对余下第N-1排中的DMD对应的曝光区域进行划分；

在相邻排中的DMD对应的曝光区域存在交叉区域时，利用无效图对交叉区域进行填补。

2.如权利要求1所述的直写式光刻机曝光方法，其特征在于，所述每个DMD对应的曝光区域，第i排DMD的曝光区域的宽度之和为：W_i,0+W_i,1+…+W_i,m-2+W_i,m-1＝W，第j列DMD的曝光区域的高度之和为：H_0,j+H_1,j+…+H_n-2,j+H_n-1,j＝H，W为直写光刻版图宽度，H为直写光刻版图高度0≤i≤N-1，0≤j≤M-1。

3.如权利要求1所述的直写式光刻机曝光方法，其特征在于，所述相邻两排或相邻两行的DMD为对齐排布或交错排布。