[发明专利]基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器在审
| 申请号： | 201910820221.6 | 申请日： | 2019-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN110579826A | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 肖功利;张开富;杨宏艳;杨秀华;杨寓婷;李海鸥;张法碧;傅涛;李琦;刘兴鹏 | 申请（专利权）人： | 桂林电子科技大学 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B5/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 541004 广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 矩形腔 波导 滤波器 金属薄膜 光波 金属膜 表面等离子体 光电集成电路 矩形阵列结构 波导组成 单元结构 光学设备 几何参数 能量损耗 有效调节 阵列结构 高集成 金属银 谐振腔 波长 出射 滤波 入射 阻带 调控 应用 | ||
1.基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器，其特征在于：所述滤波器由上下金属膜(2)和中间镂空的矩形阵列波导构成；矩形阵列单元结构由入射波导(1)、出射波导(4)和中间的矩形谐振腔(3)相连构成，左右波导构成内通道(1)和(4)，中间矩形谐振腔构成外通道(3)，该滤波器由多个相同的该单元结构的阵列构成。该结构金属薄膜采用金属银薄膜材料制成。在本发明例中，单元矩阵金属薄膜整体为长方形大小设置为592*700nm。金属薄膜上通过镂空方式，形成入射波导、出射波导和矩形谐振腔，从而使得入射波导、出射波导和谐振腔内填充的介质为空气。
2.根据权利1所述的基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器，其特征在于：单元金属膜(2)为矩形且内嵌两个矩形波导和一个矩形谐振腔。
3.根据权利1所述的基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器，其特征在于：金属膜(2)的材料为银。
4.根据权利1所述的基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器，其特征在于：金属膜(2)的厚度为100nm。
5.根据权利1或2所述的基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器，其特征在于：两个矩形波导和矩形谐振腔的对称中心与金属膜(2)的对称中心相重合。
6.根据权利1所述的基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器，其特征在于：该单元矩形结构的阵列数可以设置为3～14。
7.根据权利1所述的基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器，其特征在于：金属膜(2)间波导内通道(1)长度为300nm，宽度W设置为70nm～130nm。
8.根据权利1所述的基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器，其特征在于：金属膜(2)间谐振腔外通道(3)宽度为200nm，长度L范围为232nm～322nm。
9.根据权利1或7所述的基于MIM矩形腔阵列结构的表面等离子体滤波器，其特征在于：当单元矩形结构的阵列数为14，谐振腔外通道(3)长度为292nm时，改变内通道宽度W可以改变阻带带宽。
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