[发明专利]光纤固定装置及制作方法在审
申请号: | 201910821660.9 | 申请日: | 2019-09-02 |
公开(公告)号: | CN110441866A | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 孙其梁;徐乃涛;程进;李宋泽 | 申请(专利权)人: | 无锡微视传感科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/36 | 分类号: | G02B6/36 |
代理公司: | 江苏漫修律师事务所 32291 | 代理人: | 平梁良 |
地址: | 214000 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 固定孔 弹片 光纤固定装置 插入孔 衬底 可动 背面 光纤 环绕 环形隔离槽 工艺加工 固定装置 光纤脱落 加工误差 正面固定 正面加工 直径误差 成品率 分隔槽 光纤夹 回弹力 生产成本 连通 制作 加工 配合 | ||
1.一种光纤固定装置,其特征在于:包括衬底(1),衬底(1)的正面加工有固定孔(5),背面与固定孔(5)相对的位置加工有插入孔(6),插入孔(6)和固定孔(5)连通;所述固定孔(5)被至少两个弹片(4)所环绕,弹片(4)之间被分隔槽(3)分开,弹片(4)的外圈被环形隔离槽(2)环绕。
2.根据权利要求1所述的光纤固定装置,其特征在于:所述固定孔(5)为圆台形状,位于衬底(1)正面的上孔径小于或等于底部的下孔径;所述插入孔(6)为喇叭形状,在衬底(1)背面的孔径大于固定孔(5)的下孔径。
3.根据权利要求2所述的光纤固定装置,其特征在于:所述固定孔(5)侧壁倾斜角度为0~5度。
4.根据权利要求2所述的光纤固定装置,其特征在于:所述固定孔(5)上孔径小于或者等于光纤的直径,下孔径大于光纤的直径。
5.根据权利要求1所述的光纤固定装置,其特征在于:所述固定孔(5)的深度大于环形隔离槽(2)和分隔槽(3)的深度。
6.根据权利要求1所述的光纤固定装置,其特征在于:所述弹片(4)和分隔槽(3)数量为N,N≧2。
7.一种制作权利要求1的光纤固定装置的方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1步骤,在衬底(1)正面淀积阻挡层(7),并通过光刻和腐蚀工艺,将阻挡层(7)刻蚀出与隔离槽和固定孔(5)对应的图形;
S2步骤,以阻挡层(7)做掩蔽层,利用干法刻蚀工艺进行深硅刻蚀,刻蚀出圆台形状的固定孔(5)和隔离槽,形成弹片(4);
S3步骤,去除阻挡层(7);
S4步骤,在衬底(1)的正面和背面分别淀积第一阻挡层(8)和第二阻挡层(9);
S5步骤,在衬底(1)背面的第二阻挡层(9)表面进行光刻,打开与固定孔相对的刻蚀窗口,通过腐蚀工艺刻蚀第二阻挡层(9)和衬底(1),形成插入孔(6);
S6步骤,去除衬底(1)两面的第一阻挡层(8)和第二阻挡层(9),插入孔(6)与固定孔(5)导通。
8.根据权利要求7所述的光纤固定装置的制作方法,其特征在于:所述S2步骤中,刻蚀工艺分两步,分别刻蚀固定孔(5),以及隔离槽。
9.根据权利要求7所述的光纤固定装置的制作方法,其特征在于:整体制作方法为先刻蚀形成插入孔,再刻蚀形成固定孔(5)和隔离槽。
10.根据权利要求7所述的光纤固定装置的制作方法,其特征在于:所述衬底(1)为SOI硅片;所述阻挡层(7)为二氧化硅,或者二氧化硅与氮化硅的双层薄膜;所述第一阻挡层(8)和第二阻挡层(9)为氮化硅薄膜,或者二氧化硅与氮化硅的双层薄膜,氮化硅厚度大于二氧化硅的厚度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡微视传感科技有限公司,未经无锡微视传感科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910821660.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种镀膜光纤反射镜固定方法
- 下一篇:在其中具有可更换重定位装置的挠性罩