[发明专利]具有遮光膜的RGB发光二极管模块在审
申请号: | 201910826516.4 | 申请日: | 2019-09-03 |
公开(公告)号: | CN112447897A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 李家铭 | 申请(专利权)人: | 李家铭 |
主分类号: | H01L33/58 | 分类号: | H01L33/58;H01L33/44;H01L25/075 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 郭化雨 |
地址: | 中国台湾新北*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 遮光 rgb 发光二极管 模块 | ||
本申请提供一种具有遮光膜的RGB发光二极管模块,其包括一基板、一电路层、多个发光二极管芯片及一遮光膜,电路层形成于基板上,发光二极管芯片分别与电路层形成电性连接,且发光二极管芯片的顶部具有一出光面,遮光膜覆盖电路层及发光二极管芯片,发光二极管芯片的出光面被遮光膜覆盖,遮光膜顶面与出光面在一厚度方向上的距离小于10μm,并选择性地仅在厚度方向上允许较多光线穿射。
技术领域
本申请是有关于一种用于发光二极管显示器的RGB发光二极管模块。
背景技术
随着微发光二极管(mini LED)技术的逐渐发展,发光二极管显示器(LEDdisplay)的发展前景备受期待。
由于分辨率的提高,相邻像素间的漏光问题也期待被解决。目前为了避免相邻像素间的漏光问题,会在每个像素的发光二极管芯片周围形成光学挡墙,尽可能地遮蔽非出光方向的光向朝其他像素位置逸散。然而,光学挡墙的设置会大幅提高制程难度;例如,为了在对应各发光二极管芯片的位置形成开窗,若采曝光显影蚀刻制程易有精度较差的问题,而若采雷射雕刻制程进行开窗,则会耗费大量开窗时间。
发明内容
有鉴于此,本申请的主要目的在于提供一种能减少相邻像素间的漏光问题又便于制作的RGB发光二极管模块。
为了达成上述及其他目的,本申请提供一种具有遮光膜的RGB发光二极管模块,其包括一基板、一电路层、多个发光二极管芯片及一遮光膜,电路层形成于基板上,发光二极管芯片分别与电路层形成电性连接,且发光二极管芯片的顶部具有一出光面,遮光膜覆盖电路层及发光二极管芯片,发光二极管芯片的出光面被遮光膜覆盖,遮光膜顶面与出光面在一厚度方向上的距离小于10μm,各发光二极管芯片覆盖遮光膜后在厚度方向上所发光的亮度为各发光二极管芯片未覆盖遮光膜前在厚度方向所发光的亮度的90%以上。
申请人发现,通过在出光面上方设置较薄的遮光膜,不但仍可在所需的厚度方向上发出足够的光线(因该处遮光膜较薄),同时又能遮蔽明显偏离厚度方向的光(因所需通过的遮光膜距离较长),减少漏光情形,从而能够省略现有技术必须在遮光材料上形成开窗的步骤,大幅降低制程难度。
有关本申请的其它功效及实施例的详细内容,配合附图说明如下。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本申请RGB发光二极管膜组其中一实施例的剖面示意图;
图2、图3为本申请RGB发光二极管膜组其中一实施例的制程示意图。
符号说明
10:基板 20:电路层
30:发光二极管芯片 31:N极电接点
32:P极电接点 33:出光面
40:遮光膜 D:厚度方向
T:距离
具体实施方式
请参考图1,所绘示者为本申请RGB发光二极管膜组的其中一实施例,其包括一基板10、一电路层20、多个发光二极管芯片30及一遮光膜40。
基板10可以采用一般电路板常用的基板材质,例如FR-4等级的环氧树脂。
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