[发明专利]一种钢带离子镀膜上色工艺

说明书

本发明提供一种钢带离子镀膜上色工艺，包括以下步骤：S1：钢带进入AEG室进行离子清洗，AEG室安装有阳极棒和清洗靶材，阳极棒位于清洗靶材的上方；在高真空环境下往AEG室通入氩气，通过氩气的辉光放电，产生高能量的氩离子，高能量的氩离子在磁场及阳极棒的作用下高速轰击钢带。清洗后的钢带进入真空镀膜段进行镀膜，真空镀膜段包括真空镀膜打底室和多个真空镀膜室；钢带先进入真空镀膜打底室进行靶材打底，然后依次进入多个真空镀膜室，采用磁控溅射镀膜法对其进行镀膜。本发明的钢带离子镀膜上色工艺溅射速率快，且溅射之后镀膜效果好，颜色均匀，色差小，耗费靶材少。

技术领域

本发明涉及钢带生产技术领域，尤其涉及一种钢带离子镀膜上色工艺。

背景技术

现有的钢带镀膜离子上色工艺有以下两种：

第一种：以块状靶材均匀的一排排分布在炉壁的各个方向，数量众多，靶材呈漏斗形向中间旋转中的钢板进行溅射，溅射过于分散，会对整个炉体内部的物件都进行了溅射，靶材消耗较大；虽然溅射速率较快，但会导致板面色差不均匀，且溅射的距离有所限制，靶材与钢板的距离有所限制，距离过远，溅射效果不好，薄膜的亮度会较低；距离过近，会因为溅射过多而导致钢板发彩等现象的发生，甚至会因为温度过高而烧坏钢板。

第二种：柱状靶，柱状靶有两种模式，一是靶材位于中间，钢板围绕着靶材旋转，但是，这种模式靶材的安装需要用到行车，安装不易，且存在安全隐患。另一种模式是多个柱状靶沿着炉壁分布，钢带在中间旋转镀膜，需要的靶材较多，从而造成靶材的浪费。

发明内容

本发明提供一种溅射速率快，且溅射之后镀膜效果好，颜色均匀，色差小，耗费靶材少的钢带离子镀膜上色工艺。

本发明采用的技术方案为：一种钢带离子镀膜上色工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1：钢带进入AEG室进行离子清洗，AEG室安装有阳极棒和清洗靶材，且阳极棒位于清洗靶材的上方；在高真空环境下往AEG室通入氩气，通过氩气的辉光放电，产生高能量的氩离子，高能量的氩离子在磁场及阳极棒的作用下高速轰击钢带，将黏附在钢带表面的附着物清洗干净；

S2：AEG室与真空镀膜段密封连接，清洗后的钢带进入真空镀膜段进行镀膜，真空镀膜段包括真空镀膜打底室和多个真空镀膜室；

钢带首先进入真空镀膜打底室进行靶材打底，真空镀膜打底室无需通入氮气，只通入氩气，在高真空环境下，通过氩气的弧光放电，产生的高能量的氩离子轰击靶材，溅射出来的靶材在磁场作用下高速沉积在钢带的表面，形成致密均匀的镀膜层；

然后依次进入多个真空镀膜室，采用磁控溅射镀膜法对其进行镀膜，每个真空镀膜室内均安装有三条独立的柱弧靶材，钢带与每一条柱弧靶材均平行，并位于三条柱弧靶材的上方；在钢带上增加偏压，于高真空环境以及电流的作用下，通过氩气的弧光放电产生大量的氩离子，氩离子经过电场加速高速轰击柱弧靶材，溅射出来的靶材原子与氩气结合形成新的化合物，沉积在钢带表面形成镀膜层。

进一步地，S1中，所述AEG室安装有降温的冷水循环机构，用以冷却及保护所述清洗靶材。

进一步地，S1中，所述阳极棒选用铜棒，所述清洗靶材选用钛靶。

进一步地，S2中，每一条所述柱弧靶材相对于钢带处于正电位，且每一条所述柱弧靶材内部均设有永磁体并通有冷却水。

进一步地，S2中，每个所述真空镀膜室均安装有屏蔽罩，所述屏蔽罩位于三条所述柱弧靶材的下方。

进一步地，S2中，所述柱弧靶材为柱弧钛靶。

进一步地，S2中，钢带首先进入真空镀膜打底室进行钛靶打底。

相较于现有技术，本发明的钢带离子镀膜上色工艺具有以下优点：