[发明专利]一种使用感光性聚硅氧烷制作图形化蓝宝石衬底的方法

权利要求书

1.一种使用感光性聚硅氧烷制作图形化蓝宝石衬底的方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)、将感光性聚硅氧烷涂覆在蓝宝石衬底的表面上，使在蓝宝石衬底的表面上形成一层均匀的聚硅氧烷膜；

2)、通过曝光机对聚硅氧烷膜进行曝光处理；

3)、将曝光处理后的蓝宝石衬底送入显影设备，显影设备中的显影剂会将曝光处理后的聚硅氧烷膜的曝光区域进行移除，以在蓝宝石衬底的表面显现出聚硅氧烷PSS图形；

4)、将显影后蓝宝石衬底进行加热，并对显影后的聚硅氧烷PSS图形进行固化，以获得氧化硅PSS图形的蓝宝石衬底。

2.根据权利要求1所述的一种使用感光性聚硅氧烷制作图形化蓝宝石衬底的方法，其特征在于：所述1)步骤中，聚硅氧烷膜的厚度为0.5um～4um。

3.根据权利要求1所述的一种使用感光性聚硅氧烷制作图形化蓝宝石衬底的方法，其特征在于：所述2)步骤中，曝光机的曝光时间为50ms～500ms,所述曝光机的曝光焦距的变化量为-5.0um～+5.0um。

4.根据权利要求2所述的一种使用感光性聚硅氧烷制作图形化蓝宝石衬底的方法，其特征在于：所述曝光机的掩膜图形为圆形，其中掩膜图形的直径为0.5um～5.0um，位于同一行上的相邻两掩膜图形之间的间距为0.5um～5.0um。

5.根据权利要求4所述的一种使用感光性聚硅氧烷制作图形化蓝宝石衬底的方法，其特征在于：所述曝光机中的每相邻两行掩膜图形之间错开分布，底下一行的掩膜图形的圆心垂直于上一行中的相邻两个掩膜图形的圆心的连接线，且该三个掩膜图形的圆心连接线为正三角形。

6.根据权利要求1所述的一种使用感光性聚硅氧烷制作图形化蓝宝石衬底的方法，其特征在于：所述3)步骤中，显影设备使用碱性显影剂对曝光处理后的聚硅氧烷膜的曝光区域进行移除，其中显影时间为30s～200s。

7.根据权利要求6所述的一种使用感光性聚硅氧烷制作图形化蓝宝石衬底的方法，其特征在于：所述碱性显影剂为四甲基氢氧化氨、氢氧化钾中的一种。

8.根据权利要求1所述的一种使用感光性聚硅氧烷制作图形化蓝宝石衬底的方法，其特征在于：所述4)步骤中，使用加热盘对显现聚硅氧烷PSS图形的蓝宝石衬底进行烘烤固化，其中烘烤固化的温度为100℃～250℃、烘烤固化的时间为1min～15min。