[发明专利]一种显影槽清洁剂及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201910829494.7 申请日: 2019-09-03
公开(公告)号: CN110511838A 公开(公告)日: 2019-11-29
发明(设计)人: 杨红;杨军;王蕊;李生龙;杨波 申请(专利权)人: 四川省蜀爱新材料有限公司
主分类号: C11D7/06 分类号: C11D7/06;C11D7/10;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/60
代理公司: 44218 深圳市千纳专利代理有限公司 代理人: 何耀煌<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 637900 四川省南充市嘉*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 清洁剂 显影槽 硫酸钾 酒石酸钠 氢氧化钾 清洁领域 异丙醇胺 戊二烯 甲醇 溶胀 杂环 制备 溶解 湿润 清洁
【说明书】:

一种显影槽清洁剂及其使用方法,本发明涉及清洁领域,本发明的目的提供的显影槽清洁剂,技术方案如下:一种显影槽清洁剂,所述的清洁剂包括有如下组分:异丙醇胺9‑14wt%,氢氧化钾18‑26wt%,酒石酸钠10wt%,硫酸钾0.6‑1.2wt%,1,3‑二氨杂环戊二烯5‑35wt%,2‑15wt%甲醇。本发明的有益效果在于,1.对残留物具有快速湿润、溶胀和溶解的作用,具有清洁高效的特点;2.制备方法简单,操作简单。

技术领域

本发明涉及清洁领域,具体涉及一种显影槽清洁剂及其使用方法。

背景技术

PCB,即印刷电路板,是诸多电子元器件的重要的组成部分,广泛的应用于各类电子产品,而显影槽在PCB中制备过程中扮演着重要的角色,但是在使用过程中,有诸多各种各样的残留物附着在槽壁等处,如果没有及时的对这些残留物进行处理,容易在后续的生产过程中产生不良,因此,显影槽及时的清洁非常重要。因此,如何提供一种高效环保的清洁剂非常的重要。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种显影槽清洁剂,其技术方案如下:一种显影槽清洁剂,所述的清洁剂包括有如下组分:异丙醇胺 9-14wt%,氢氧化钾 18-26wt%,酒石酸钠10wt%,硫酸钾 0.6-1.2wt%,1,3-二氨杂环戊二烯 5-35wt%,2-15wt% 甲醇。

优选的,所述的清洁剂包括有如下组分:异丙醇胺 12wt%,氢氧化钾 20wt%,酒石酸钠 10wt%,硫酸钾 1.1wt%,1,3-二氨杂环戊二烯 20wt%,13wt% 甲醇。

本发明的第二个目的在于提供一种显影槽清洁剂的制备方法,所述的制备方法为将上述的显影槽清洁剂中的各个组分均匀混合即得。

本发明的第三个目的在于提供一种显影槽清洁剂的使用方法,所述的使用方法为在槽体内加入被稀释的清洁剂,采用搅拌或者喷淋的方式进行清洗,清洗时间为1-2小时,温度为40-45℃。

本发明的有益效果在于,1.对残留物具有快速湿润、溶胀和溶解的作用,具有清洁高效的特点;2.制备方法简单,操作简单。

具体实施方式

为了进一步的对本发明做出说明,申请人提供以下的具体实施方式,但是本发明的保护范围并不限于这些实施例,凡是不背离本发明构思的改变或者等同替代均包括在本发明的保护范围之内:

实施例1

制备清洁剂:将如下各组分混合均匀:异丙醇胺 12wt%,氢氧化钾 20wt%,酒石酸钠10wt%,硫酸钾 1.1wt%,1,3-二氨杂环戊二烯 20wt%,13wt% 甲醇。

采用上述的清洁剂对显影槽进行清洁:每1L显影槽内加入800ml的清水,然后加入200ml的清洁剂,温度为42℃,时长1.5小时,残留物去除率为96%。

实施例2

制备清洁剂:异丙醇胺 10wt%,氢氧化钾 26wt%,酒石酸钠 10wt%,硫酸钾 0.8wt%,1,3-二氨杂环戊二烯 25wt%,10wt% 甲醇。

采用上述的清洁剂对显影槽进行清洁:每1L显影槽内加入700ml的清水,然后加入250ml的清洁剂,温度为44℃,时长1.5小时,残留物去除率为95%。

实施例3

制备清洁剂:异丙醇胺 14wt%,氢氧化钾 25wt%,酒石酸钠 10wt%,硫酸钾 0.9wt%,1,3-二氨杂环戊二烯 30wt%,8wt% 甲醇。

采用上述的清洁剂对显影槽进行清洁:每1L显影槽内加入600ml的清水,然后加入180ml的清洁剂,温度为45℃,时长2小时,残留物去除率为98%。

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