[发明专利]一种基于各向异性双光子吸收效应的光束整形装置

权利要求书

1.一种基于各向异性双光子吸收效应的光束整形装置，其特征在于，所述整形装置自左向右依次为飞秒脉冲激光器、矢量光场生成系统、聚焦透镜、各向异性双光子吸收材料、以及光场检测系统，其中激光器输出光束光强横向分布为高斯型或近高斯型线偏振光束，能够激发材料的各向异性双光子吸收效应，矢量光生成系统为4F系统，能够生成空间偏振态任意分布的矢量光场，各向异性双光子吸收材料为c切割的ZnSe单轴晶轴，双面抛光。

2.根据权利要求1所述的基于各向异性双光子吸收效应的光束整形装置，其特征在于，所述的聚焦透镜为弱聚焦消色差正透镜。

3.根据权利要求2所述的基于各向异性双光子吸收效应的光束整形装置，其特征在于，所述聚焦透镜为焦距150 mm的消色差透镜。

4.根据权利要求3所述的基于各向异性双光子吸收效应的光束整形装置，其特征在于，所述光束检测系统为激光光束质量分析仪，能够探测激光束的横向光强分布。

5.一种基于各向异性双光子吸收效应的平顶光束生成方法，其特征在于，所述生成方法如下：

步骤1：设计目标矢量场所需相位图；

步骤2：将步骤1计算得到的相位图加载到空间光调制器上，利用4F系统生成入射矢量光场；

步骤3：将入射场聚焦到ZnSe晶体表面，晶体位于聚焦透镜的焦平面上；

步骤4：利用光束分析仪检测生成的平顶光束光强分布情况；

步骤5：根据生成效果反馈优化相位图，提高光束整形效果；

其中激光器输出光束光强横向分布为高斯型或近高斯型线偏振光束，能够激发材料的各向异性双光子吸收效应，矢量光生成系统为4F系统，能够生成空间偏振态任意分布的矢量光场，各向异性双光子吸收材料为c切割的ZnSe单轴晶轴，双面抛光。