[发明专利]一种成像设备电磁敏感度测试系统、方法和装置在审
申请号: | 201910838486.9 | 申请日: | 2019-09-05 |
公开(公告)号: | CN110542814A | 公开(公告)日: | 2019-12-06 |
发明(设计)人: | 葛欣宏;宋健;李俊霖;张鹰;袁理 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G01R31/00 | 分类号: | G01R31/00;H04N17/00 |
代理公司: | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王云晓<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 130033 吉林省长春市*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 判读结果 辐射电场信息 敏感 主控计算机 辐射电场 被测成像设备 电场频率 图像信息 场强 图像质量评价 电磁敏感度 方法和装置 监视器 测试条件 测试系统 成像设备 电场探头 发射天线 发射系统 同步记录 预设 申请 采集 发送 图像 反馈 | ||
本申请提供一种成像设备电磁敏感度测试系统、方法和装置,该系统包括:辐射电场发射系统,用于利用发射天线按照预设测试条件形成辐射电场;图像快视设备,用于根据图像信息利用图像质量评价方法得到敏感判读结果,发送敏感判读结果至主控计算机,其中,图像信息是被测成像设备在辐射电场中采集到的信息;电场探头,用于感应敏感判读结果对应的辐射电场信息,其中,辐射电场信息包括电场频率和电场强度;场强监视器,用于将辐射电场信息反馈至主控计算机;主控计算机,用于同步记录敏感判读结果和与敏感判读结果对应的辐射电场信息。本申请可以同步、精准、自动的获取被测成像设备的敏感判读结果、电场强度和电场频率。
技术领域
本申请涉及电磁兼容技术领域,特别涉及一种成像设备电磁敏感度测试系统、方法和装置。
背景技术
星载成像系统是指对地观测的各种遥感器,这些遥感器可以通过成像的方式获得大地、海面等的各种军用或民用信息。系统获取图像的质量是星载成像系统决定了整个系统的工作性能。星载成像系统的电场辐射敏感度试验是产品交付前重要的考核项之一,考核了系统在电场辐照下工作性能是否正常,敏感性试验的主要判据就是成像质量。
电场辐射敏感度试验的原理为:信号源产生天线的馈电信号,通过功放激励天线辐射出电场,电场的频率及场强由场强监视器及电场探头进行监视,所有设备组成了一个闭环系统,保证了产生的辐射电场符合试验条件要求。电场辐照于星载成像系统,通过星载成像系统的图像快视设备获取图像,通过判定图像质量来确定系统是否电磁敏感,在试验布置中,图像快视设备放置在负载室,信号源放置在控制室,空间上是分割的。相关技术中,电场辐射敏感度试验过程中若出现成像质量不佳时,则判定该点电磁敏感,需要记录相应的电场辐射强度及对应频率。测试中配备双岗,A岗人员负责判读图像质量,B岗人员负责电场辐射敏感度测试并记录相关信息。在出现敏感现象时,A岗人员提示B岗人员敏感,B岗人员进行相应记录。该方法的缺陷在于:A岗人员和B岗人员空间上相对隔离,由于测试采用扫频方式,在单一频点驻留时间较短,在B岗人员收到信息时,已经扫过了相应的频率,导致记录信息的不准确,此外,A岗人员判读图像质量时,通常采用目视判读,主观性较高,存在产品已经受干扰但漏判的情况。
因此,如何在星载成像系统电场辐射敏感度试验中同步地、客观地获取产生电磁敏感现象时相应的电场辐射强度及频率是本领域技术人员需要解决的技术问题。
发明内容
本申请的目的是提供一种成像设备电磁敏感度测试系统、方法和装置,实现了同步、精准、自动的获取被测成像设备的敏感判读结果、电场强度和电场频率。其具体方案如下:
本申请提供一种成像设备电磁敏感度测试系统,包括:
辐射电场发射系统,用于利用发射天线按照预设测试条件形成辐射电场;
图像快视设备,用于根据图像信息利用图像质量评价方法得到敏感判读结果,发送所述敏感判读结果至主控计算机,其中,所述图像信息是被测成像设备在所述辐射电场中采集到的信息;
电场探头,用于感应所述敏感判读结果对应的辐射电场信息,其中,所述辐射电场信息包括电场频率和电场强度;
场强监视器,用于将所述辐射电场信息反馈至所述主控计算机;
所述主控计算机,用于同步记录所述敏感判读结果和与所述敏感判读结果对应的所述辐射电场信息。
可选的,还包括:
容纳所述发射天线、被测成像设备、所述电场探头的屏蔽装置。
可选的,所述辐射电场发射系统包括:
与所述主控计算机连接的信号发生器,用于产生射频信号;
与所述信号发生器连接的功率放大器,用于放大所述射频信号;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910838486.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。