[发明专利]一种制备窄间距的手性微纳结构的方法

权利要求书

1.一种制备窄间距的手性微纳结构的方法，其特征在于，包括以下步骤：

准备基底：准备洁净的玻璃基底或者ITO基底；

涂覆光刻胶：用甩胶机在准备好的基底表面甩一层光刻胶；

电子束曝光结构图形：用图形发生器设计方形周期阵列结构，并用电子束对设定区域曝光刻蚀，得到宽度为d的缝隙；

显影定影；

蒸镀金属：采用电子束真空蒸发镀膜仪蒸镀金属材料，蒸镀金属的具体步骤为：步骤一，采用第一沉积角θ₁在第一区域蒸镀厚度为h₁，宽度为w₁的金属材料；步骤二，采用第二沉积角θ₂在第二区域蒸镀厚度为h₂，宽度为w₂的金属材料；步骤三，采用第三沉积角θ₃在第三区域蒸镀厚度为h₃，宽度为w₃的金属材料；沉积角θ、蒸镀厚度h与宽度为w之间的关系为θ=arctan(h/(d－w))；其中，在以上三个步骤中，蒸镀金属的方向不同；并且，蒸镀金属的宽度w₁，w₂，w₃均小于刻蚀孔隙的宽度d；

除胶：将蒸镀完金属的基底放入冷藏的丙酮溶液中除胶；

冲洗：用去离子水将除胶后的基底用去离子水冲洗至洁净。

2.根据权利要求1所述的制备窄间距的手性微纳结构的方法，其特征在于，所述蒸镀金属的厚度h₁，h₂，h₃均小于光刻胶厚度的1/3。

3.根据权利要求1所述的制备窄间距的手性微纳结构的方法，其特征在于，所述涂覆光刻胶时甩胶机转速为1000rpm~6000rpm，时间为60s。

4.根据权利要求1所述的制备窄间距的手性微纳结构的方法，其特征在于，所述金属材料为贵金属材料。