[发明专利]一种磁混凝沉淀污水处理设备及污水处理方法

权利要求书

1.一种磁混凝沉淀污水处理设备，

包括转轴，转轴上由上至下依次设有第一搅拌叶、混凝反应罐底座、第二搅拌叶、磁混凝反应罐底座、第三搅拌叶、絮凝反应罐底座、挤压块，第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶、挤压块固定在转轴上，混凝反应罐底座、磁混凝反应罐底座、絮凝反应罐底座分别通过轴承套接在转轴上，混凝反应罐底座、磁混凝反应罐底座、絮凝反应罐底座的上方分别设有混凝反应罐罐体、磁混凝反应罐罐体、絮凝反应罐罐体；

第一搅拌叶设置在混凝反应罐罐体内侧，第二搅拌叶设置在磁混凝反应罐罐体内侧，第三搅拌叶设置在絮凝反应罐罐体的内侧；

所述混凝反应罐罐体与混凝剂投加装置连通，所述混凝反应罐罐体上设有污水入口，所述磁混凝反应罐罐体与磁粉投加装置连通，所述凝絮反应罐罐体与助凝剂投加装置连通；

混凝反应罐底座、磁混凝反应罐底座、絮凝反应罐底座可各自由伸缩装置驱动相对转轴上下移动，混凝反应罐底座、磁混凝反应罐底座、絮凝反应罐底座由伸缩驱动装置驱动向下移动时可分别与混凝反应罐罐体、磁混凝反应罐罐体、絮凝反应罐罐体分离，混凝反应罐底座、磁混凝反应罐底座、絮凝反应罐底座由伸缩驱动装置驱动向上移动至一定位置时，可分别与混凝反应罐罐体、磁混凝反应罐罐体、絮凝反应罐罐体的底部密封；

混凝反应罐底座设置在磁混凝反应罐罐体的内侧，磁混凝反应罐底座设置在絮凝反应罐罐体的内侧，絮凝反应罐底座设置在沉淀罐罐体的内侧，挤压块设置在沉淀罐罐体的内侧；

沉淀罐罐体的上部设有排水口，沉淀罐罐体的下部设有沉淀区，沉淀区的底部设有排污口，排污口处连接有排污管道，挤压块可由转轴的带动由沉淀区伸入排污管道内；

排污管道上设有滤水口，滤水口与排污口相应设置，滤水口处设有滤网，滤水口处连接有滤水管道；

排污管道的出污口处连接有剪切装置，排污管道与剪切装置之间连接的管道上设有粉碎泵；

剪切装置的出污口处连接有磁鼓，剪切装置与磁鼓的连接管道上设有粉碎泵；

磁鼓上设有磁粉出口、污泥出口，磁粉出口连接有磁粉回收装置，污泥出口处连接有污泥贮池。

2.根据权利要求1所述的一种磁混凝沉淀污水处理设备，其特征在于，第一搅拌叶由若干以转轴为对称轴对称设置在转轴上的第一针式搅拌叶组成，第一针式搅拌叶的形状与混凝反应罐罐体罐底至罐口之间的内壁曲线相同，第一针式搅拌叶的高度与混凝反应罐罐体高度之比为1:1.4-1.6，第一针式搅拌叶的旋转轨迹与混凝反应罐罐体的内壁平行。

第二搅拌叶包括若干以转轴为对称轴对称设置在转轴上的第二针式搅拌叶，第二针式搅拌叶的形状与磁混凝反应罐罐体罐底至罐口之间的内壁曲线相同，第二针式搅拌叶的高度与磁混凝反应罐罐体高度之比为1:1.4-1.6，第二针式搅拌叶的旋转轨迹与磁混凝反应罐罐体的内壁平行；

第三搅拌叶包括若干以转轴为对称轴对称设置在转轴上的第三针式搅拌叶组成，第三针式搅拌叶的形状与絮凝反应罐罐体罐底至罐口之间的内壁曲线相同，第三针式搅拌叶的高度与絮凝反应罐罐体高度之比为1:1.4-1.6，第三针式搅拌叶的旋转轨迹与絮凝反应罐罐体的内壁平行。

3.根据权利要求1所述的一种磁混凝沉淀污水处理设备，其特征在于，剪切装置包括剪切罐罐体，剪切罐体内部在高度方向上设有剪切装置，剪切装置在高度方向上包括由上至下依次设置的活动部、剪切部、固定部；

剪切部由在高度方向上依次设置的若干个X型支架，所述X型支架包括呈交叉设置且中部相互铰接的两连杆，任意一个X型支架的两连杆分别一一对应地与相邻的X型支架的两连杆铰接；

活动部由气缸带动在高度方向上上下活动，剪切部在高度方向上相邻的两连杆由活动部的带动相互靠近或远离。

4.根据权利要求3所述的一种磁混凝沉淀污水处理设备，X型支架呈交叉设置且中部相互铰接的两连杆之间角度开合范围控制在175-178°。