[发明专利]刻蚀结构的形貌分析方法及装置

权利要求书

1.一种刻蚀结构的形貌分析方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一衬底，所述衬底内具有刻蚀结构；

采用等离子体填充工艺填充满所述刻蚀结构，形成填充结构；

通过化学反应去除所述衬底，完整暴露所述填充结构，以避免物理去除工艺对所述填充结构的损伤；

分析所述填充结构，获取所述刻蚀结构的形貌特征。

2.根据权利要求1所述的刻蚀结构的形貌分析方法，其特征在于，填充满所述刻蚀结构的具体步骤包括：

选择一填充材料，所述填充材料与形成所述衬底的材料之间的刻蚀选择比大于预设值；

沉积填充材料至所述刻蚀结构，形成至少填充满所述刻蚀结构的填充结构。

3.根据权利要求2所述的刻蚀结构的形貌分析方法，其特征在于，所述衬底包括相对分布的上表面和下表面，所述刻蚀结构自所述上表面向所述衬底内部延伸；沉积填充材料至所述刻蚀结构的具体步骤包括：

沉积填充材料至所述刻蚀结构内，形成填充满所述刻蚀结构且覆盖所述上表面的填充结构。

4.根据权利要求3所述的刻蚀结构的形貌分析方法，其特征在于，暴露所述填充结构的具体步骤包括：

刻蚀所述衬底，完全暴露所述填充结构。

5.根据权利要求1所述的刻蚀结构的形貌分析方法，其特征在于，分析所述填充结构的具体步骤包括：

对所述填充结构进行三维扫描，建立三维模型；

分析所述三维模型，获取所述刻蚀结构的形貌。

6.根据权利要求5所述的刻蚀结构的形貌分析方法，其特征在于，建立三维模型的具体步骤包括：

采用一预设波长的光线对所述填充结构进行非接触式三维扫描，建立三维模型；

显示所述三维模型于一显示界面。

7.根据权利要求1所述的刻蚀结构的形貌分析方法，其特征在于，所述刻蚀结构的形貌特征包括所述刻蚀结构顶部的特征尺寸、所述刻蚀结构底部的特征尺寸、所述刻蚀结构的倾斜度、所述刻蚀结构的弯曲度、所述刻蚀结构中部的特征尺寸、所述刻蚀结构的高度中的一种或者多种。

8.一种刻蚀结构的形貌分析装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于对一填充结构进行三维扫描，以建立所述填充结构的三维模型，所述填充结构是通过等离子体填充工艺填充满一衬底内部的刻蚀结构、并去除所述衬底之后得到的，通过化学反应去除所述衬底，使得所述填充结构完整暴露，以避免物理去除工艺对所述填充结构的损伤；

分析模块，用于分析所述三维模型，获取所述刻蚀结构的形貌特征。

9.根据权利要求8所述的刻蚀结构的形貌分析装置，其特征在于，所述获取模块用于采用一预设波长的光线对所述填充结构进行非接触式三维扫描，以建立三维模型。

10.根据权利要求8所述的刻蚀结构的形貌分析装置，其特征在于，还包括：

显示模块，用于将所述三维模型显示于一显示界面。

11.根据权利要求8所述的刻蚀结构的形貌分析装置，其特征在于，所述刻蚀结构的形貌特征包括所述刻蚀结构顶部的特征尺寸、所述刻蚀结构底部的特征尺寸、所述刻蚀结构的倾斜度、所述刻蚀结构的弯曲度、所述刻蚀结构中部的特征尺寸、所述刻蚀结构的高度中的一种或者多种。