[发明专利]一种碱洗硅处理碱性污水处理装置及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201910844855.5 申请日: 2019-09-07
公开(公告)号: CN110615517A 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: 石坚;李杰;于友;朱棣 申请(专利权)人: 山东九思新材料科技有限责任公司
主分类号: C02F1/66 分类号: C02F1/66;C01D7/00;C01B33/20;C01B33/00;C02F103/34
代理公司: 37249 济南舜昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 闫晓燕
地址: 273213 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 二氧化碳 反应罐 碱性污水 硅处理 进液管 控制箱 底架 碱洗 进管 排液管出口端 二氧化碳液 侧壁上部 处理装置 左右两侧 环保性 排液管 循环泵 传感器 侧壁 出管 底面 阀门 有压 无毒 检测
【说明书】:

一种碱洗硅处理碱性污水处理装置及其使用方法,属于碱洗硅处理技术领域,包括控制箱、底架和固定安装在底架上的反应罐,所述反应罐侧壁底部通过二氧化碳进管安装有二氧化碳液罐,反应罐侧壁上部安装有二氧化碳出管,反应罐的底面左右两侧分别安装有进液管和排液管,所述排液管出口端连接有压滤装置。控制箱接收各个传感器、检测计的信号,实现对各个阀门和循环泵的自动控制,通过二氧化碳进管向反应罐内输送二氧化碳,进液管向反应罐输送碱性污水,在反应罐内二氧化碳与碱性污水反应,生成PH接近中性,无污染、无毒的物质,环保性高,且二氧化碳成本低廉,安全性好。

技术领域

发明属于碱洗硅处理技术领域,具体地说是一种碱洗硅处理碱性污水处理装置及其使用方法。

背景技术

在半导体器件生产中,硅片是不可缺少的材料,硅片须严格保证清洁,即使微量的污染也会导致半导体器件的失效。在长时间使用后,硅片表面易被污染,硅片清洗的目的在于清除硅片表面的污染杂质,包括有机物和无机物,以实现硅材料的循环再利用,保证资源利用效率。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式附存于硅片的表面,在正常使用时,会导致各种缺陷。

在硅处理清洗技术中,通常使用碱性溶液对硅片表面杂质进行反应、反复冲洗,以达取出杂质的目的,在此工艺中,碱性溶液需求量大,冲洗后的污水中含有大量碱性溶液和偏硅酸离子混合强碱溶液,产出量多,现今处理技术是通过盐酸进行中和反应,从而实现碱性污水处理的目的,但是在中和过程中,采用的是强酸性物质,环保性低,危险性高,原料昂贵,反应工艺严格,且产生大量氯离子反应物,直接排放会对环境产生严重不良影响,需要另增加其他处理工艺,增加处理成本。

发明内容

为解决现今硅处理清洗后的碱性污水的处理中,使用盐酸中和,环保性低,危险性高,原料昂贵,反应工艺严格,且产生大量氯离子反应物,直接排放会对环境产生严重不良影响,需要另增加其他处理工艺,增加处理成本的问题,本发明提供一种碱洗硅处理碱性污水处理装置及其使用方法。

本发明一方面是通过下述技术方案来实现的。

一种碱洗硅处理碱性污水处理装置,包括控制箱、底架和固定安装在底架上的反应罐,所述反应罐侧壁底部通过二氧化碳进管安装有二氧化碳液罐,反应罐侧壁上部安装有二氧化碳出管,反应罐的底面左右两侧分别安装有进液管和排液管,所述排液管出口端连接有压滤装置。控制箱接收各个传感器、检测计的信号,实现对各个阀门的自动控制,通过二氧化碳进管向反应罐内输送二氧化碳,进液管向反应罐输送碱性污水,在反应罐内二氧化碳与碱性污水中的碱性物质、偏硅酸离子物质反应,生成无污染、无毒的碳酸氢盐和可通过压滤装置分离的偏硅酸氢离子盐,环保性高,二氧化碳成本低廉,安全性好。

本发明的进一步改进还有,上述二氧化碳出管、进液管和排液管上分别安装有出气阀、进液阀和排液阀,所述二氧化碳进管的前后端分别安装有进气阀和截止阀。通过控制箱控制各个阀门的自动开合实现自动化控制工艺流程。

本发明的进一步改进还有,上述二氧化碳出管通过循环泵与进气阀和截止阀间的二氧化碳进管连通。通过循环泵循环充入反应罐的二氧化碳,使二氧化碳与内部溶液反应更加充分、彻底,节约二氧化碳原料用量,不浪费二氧化碳气体,节省成本。

本发明的进一步改进还有,上述反应罐顶面安装有排气管,所述排气管上安装有氧气传感器和排气阀。通过排气管可排出反应罐内部多余空气,并通过氧气传感器检测排出空气程度,由排气阀进行封闭。

本发明的进一步改进还有,上述反应罐侧壁和底面分别安装有液位计和PH计。液位计检测内部溶液液位,便于控制进液量,PH计检测反应液PH值,检测是否反应充分完全,自动化程度高。

本发明的进一步改进还有,上述反应罐内部安装有与二氧化碳进管连通的曝气管。通过曝气,增加二氧化碳与污水的接触反应程度,使反应更加充分、彻底。

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