[发明专利]一种高平整度大理石瓷砖在审

专利信息
申请号: 201910845551.0 申请日: 2019-09-06
公开(公告)号: CN110483013A 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 王梁;朱联烽;蒋小英;伍永归 申请(专利权)人: 清远市简一陶瓷有限公司;佛山市简一陶瓷有限公司
主分类号: C04B33/13 分类号: C04B33/13;C04B33/132;C04B41/89;C03C8/00
代理公司: 44202 广州三环专利商标代理有限公司 代理人: 颜希文;宋静娜<国际申请>=<国际公布>
地址: 511825 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 大理石瓷砖 高平整度 化学组 面釉层 抛釉层 坯体层 平整度 吸水率 花釉 抗折 坯料
【说明书】:

发明公开了一种高平整度大理石瓷砖,从下至上依次包含坯体层、面釉层、花釉层、抛釉层;以质量百分含量计,所述坯料的化学组分为:SiO2 65~68%、Al2O3 19~21%、Fe2O3 0.6~0.7%、TiO2 0.23~0.25%、CaO 0.3~0.4%、MgO 1~1.5%、K2O 3~3.6%和Na2O 2~2.7%。本发明所述的大理石瓷砖抗折强度≥35Mpa,吸水率<0.1%,平整度方面600边偏差范围:‑0.3~+0.4mm,900边偏差范围:‑0.5~+0.55mm。

技术领域

本发明涉及陶瓷材料领域,尤其涉及一种高平整度大理石瓷砖。

背景技术

大理石瓷砖具有天然大理石纹理、色彩和质感,同时具备了瓷砖硬度高、耐污性好、易清洁等优点,一经推出便受到市场的热捧,成为了有釉瓷砖的主流产品。但对比天然大理石,因为天然石材的表里如一,铺贴时使用同色云石胶粘结牢固后,能够对大理石进行打磨抛光,可以使整个铺贴面保持平整光滑,磨削的石材粉也可以覆盖铺贴的缝隙,使得缝隙间的颜色同石材本身差别不大,给人以完整平面的视觉感官。而大理石瓷砖只是釉层具备大理石的纹理,并且釉层厚度较薄,铺贴完成后不平的表面不能通过磨削抛光的方式进行修饰,磨抛容易导致釉层完全剥落露出坯体颜色,破坏整体的纹理效果;同时,瓷砖胶也难以调色到跟周边纹理相同的颜色,使得铺贴缝隙过于明显,难以给人一种所有瓷砖形成一个整体的视觉感官。

现在大理石瓷砖的发展趋势是大尺寸、轻薄化,减少了相同铺贴面积所用的瓷砖数量,间接减少了铺贴缝隙的数目,整体效果简约大气,具有震撼的视觉冲击和美感。然而大规格瓷砖的平整度偏差(>1mm)相比小尺寸瓷砖要大很多,难以在铺贴过程中使所有瓷砖基本保持在同一平面(高度差<0.5mm),同时铺贴缝隙较大,切割开了整个铺贴面,影响美感。为了实现大理石瓷砖的密缝铺贴(缝隙宽度<0.5mm),大理石瓷砖需要具备很高的平整度(偏差范围:±0.5mm),使铺贴的瓷砖间落差较小;同时需要瓷砖的吸水率极低(<0.1%),后期吸湿膨胀小,不用在瓷砖铺贴时留下足够大的缝隙以满足瓷砖后期膨胀的要求,使铺贴留缝的宽度大大减小。

发明内容

基于此,本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种高平整度大理石瓷砖。该高平整度大理石瓷砖坯料及釉料配方具有坯釉适应性好、烧制品平整度偏差小、吸水率低、滞后变形小等优点,可以满足瓷砖密缝铺贴的要求。

为实现上述目的,本发明所采取的技术方案为:一种高平整度大理石瓷砖,从下至上依次包含坯体层、面釉层、花釉层、抛釉层;以质量百分含量计,所述坯料的化学组分为:SiO2 65~68%、Al2O3 19~21%、Fe2O3 0.6~0.7%、TiO20.23~0.25%、CaO 0.3~0.4%、MgO 1~1.5%、K2O 3~3.6%和Na2O 2~2.7%。

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